一种96%氧化铝陶瓷基片及其制备方法技术

技术编号:9760258 阅读:233 留言:0更新日期:2014-03-14 05:08
一种96%氧化铝陶瓷基片,包括由以下重量份的原料制备而成:氧化铝94~98份;二氧化硅1~3份;氧化镁和氧化钙混合物0.5~1.5份;氧化硼0.1~0.5份;亚甲基双丙烯酸胺0.1~0.5份;丙烯酰胺0.2~0.8份;且所述氧化铝在所有原料中的重量百分比为96%。本发明专利技术组分配比合理,生产的陶瓷基片化学性能稳定,介电常数适宜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种陶瓷基片,具体涉及。
技术介绍
目前,随着微电子技术的发展,各种光电子器件也在向微型化、大规模集成化、高效率、高可靠性等方向发展,因此要求电子封装必须解决电子系统的散热问题。电子封装一般使用的是陶瓷基片,它主要为电子元器件及其相互联线提供机械承载支撑、气密性保护并可作为热沉过渡片给芯片散热。陶瓷基片绝缘性好、可靠性高、介电系数小、高频性好、机械强度高、热膨胀系数小、热导率高、密性好、化学性能稳定。因此需要设计一种更加实用的陶瓷基片。
技术实现思路
本专利技术所解决的技术问题在于提供,从而解决上述
技术介绍
中的问题。本专利技术所解决的技术问题采用以下技术方案来实现: 一种96%氧化铝陶瓷基片,包括由以下重量份的原料制备而成: 氧化招94~98份; 二氧化硅I~3份;` 氧化镁和氧化韩混合物0.5~1.5份; 氧化硼0.1~0.5份; 亚甲基双丙烯酸胺0.1~0.5份; 丙烯酰胺0.2~0.8份, 且所述氧化铝在所有原料中的重量百分比为96%。本专利技术中,氧化铝作为主要成分,形成的陶瓷有较好的传导性、机械强度和耐高温性。本专利技术中,二氧化硅在I~3重量份范围之内时,制备的陶瓷基片性能稳定,介电常数适宜。本专利技术中,氧化硼在I~3重量份范围之内时,制备的陶瓷基片化学稳定性较高。一种96%氧化铝陶瓷基片的制备方法,包括如下步骤: 将94~98份氧化招、I~3份二氧化娃、0.5~1.5份氧化镁和氧化IV混合物以及0.1~0.5份氧化硼,混合,使用陶瓷球磨机进行研磨,研磨2h后,加入0.1~0.5份亚甲基双丙烯酸胺和0.2~0.8份丙烯酰胺,得到料浆; 将上述料浆注入模具,在30~45°C下固化成素坯,然后脱模; 将脱模之后的素坯,进行切片、打孔加工,使之成型为所需的形状和尺寸。由于采用了以上结构,本专利技术具有以下有益效果: 本专利技术组分配比合理,生产的陶瓷基片化学性能稳定,介电常数适宜。【具体实施方式】为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本专利技术。实施例1 一种96%氧化铝陶瓷基片,包括由以下原料制备而成: 氧化招96kg ; 二氧化硅I kg ; 氧化镁和氧化韩混合物1.5 kg ; 氧化硼0.5 kg ; 亚甲基双丙烯酸胺0.5 kg; 丙烯酰胺0.5 kg ο制备时,包括如下步骤: 将称重得到的氧化铝、二氧化硅、氧化硼、氧化镁和氧化钙混合物,混合,使用陶瓷球磨机进行研磨,研磨2h后,加入0.5kg亚甲基双丙烯酸胺和0.5kg丙烯酰胺,得到料浆;将上述料浆注入模具,在30°C下固化成素坯,然后脱模; 将脱模之后的素坯,进行 切片、打孔加工,使之成型为所需的形状和尺寸。实施例2 一种96%氧化铝陶瓷基片,包括由以下重量份的原料制备而成: 氧化铝96份; 二氧化硅2份; 氧化镁和氧化钙混合物1.5份; 氧化硼0.1份; 亚甲基双丙烯酸胺0.1份; 丙烯酰胺0.3份。制备时,包括如下步骤: 将氧化铝、二氧化硅、氧化镁和氧化钙混合物以及氧化硼,混合,使用陶瓷球磨机进行研磨,研磨2h后,加入0.1份亚甲基双丙烯酸胺和0.3份丙烯酰胺,得到料浆; 将上述料浆注入模具,在45°C下固化成素坯,然后脱模; 将脱模之后的素坯,进行切片、打孔加工,使之成型为所需的形状和尺寸。实施例3 一种96%氧化铝陶瓷基片,包括由以下重量份的原料制备而成: 氧化铝96份; 二氧化硅3份; 氧化镁和氧化钙混合物0.5份; 氧化硼0.1份; 亚甲基双丙烯酸胺0.2份; 丙烯酰胺0.2份。制备时,包括如下步骤:将氧化铝、二氧化硅、氧化镁和氧化钙混合物以及氧化硼,混合,使用陶瓷球磨机进行研磨,研磨2h后,加入0.2份亚甲基双丙烯酸胺和0.2份丙烯酰胺,得到料浆; 将上述料浆注入模具,在40°C下固化成素坯,然后脱模; 将脱模之后的素坯,进行切片、打孔加工,使之成型为所需的形状和尺寸。以上显示和描述了本专利技术的基本原理和主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解,本专利技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本专利技术的原理,在不脱离本专利技术精神和范围的前提下,本专利技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。`本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种96%氧化铝陶瓷基片,其特征在于:包括由以下重量份的原料制备而成:氧化铝??94~98份;二氧化硅??1~3份;氧化镁和氧化钙混合物??0.5~1.5份;氧化硼??0.1~0.5份;亚甲基双丙烯酸胺??0.1~0.5份;丙烯酰胺??0.2~0.8份,且所述氧化铝在所有原料中的重量百分比为96%。

【技术特征摘要】
1.一种96%氧化铝陶瓷基片,其特征在于:包括由以下重量份的原料制备而成: 氧化招94~98份; 二氧化硅I~3份; 氧化镁和氧化韩混合物0.5~1.5份; 氧化硼0.1~0.5份; 亚甲基双丙烯酸胺0.1~0.5份; 丙烯酰胺0.2~0.8份, 且所述氧化铝在所有原料中的重量百分比为96%。2.如权利要求1所述的一种96%氧化铝陶瓷基片的制备方法,其特征在于:...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘唐宋张满雲刘翔刘志军段民华
申请(专利权)人:新化县亚泰鑫瓷业发展有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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