一种X光高温高压催化反应炉制造技术

本发明专利技术提出了一种X光高温高压催化反应炉，包括：气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道，气体进口通道通过连通孔与炉腔导通，炉腔内侧设置有屏蔽层，外壁上设置有窗口和铍窗法兰，窗口和铍窗法兰之间设置有保护层，保护层包括位于外侧的镀铝铍片层和位于内侧的高分子薄膜层，屏蔽层包括与保护层对应设置的铍片。铍窗法兰、镀铝铍片层、高分子薄膜层、胶圈、炉腔及炉上盖由螺栓连接形成一密封腔体，由于高分子薄膜层设置在镀铝铍片内侧，可将催化气体与镀铝铍片隔离，因此高分子薄膜层可以保护镀铝铍片不被催化气体及催化物污染，镀铝铍片材料性能优异可以承受1MPa的反应压力并且低能X光可以顺利通过照射到催化物。

【技术实现步骤摘要】
一种X光高温高压催化反应炉
本专利技术涉及催化炉，特别是指一种X光高温高压催化反应炉。
技术介绍
目前国内大多数X光原位催化炉采用高分子薄膜材料作为窗口材料，但因高分子薄膜材料耐压及耐高温性能不佳，所以高分子薄膜作为窗口材料的X光催化反应炉，只能满足部分要求，现有的X光原位催化炉其结构如图3所示，炉上盖2、炉腔1、密封胶圈25、高分子薄膜26和密封法兰27，通过螺栓连接成一密封腔体。X光在低能区间，很容易被材料吸收，导致射线无法透入，故采用高分子薄膜材料作为窗口材料，但因高分子材料耐压及耐高温性能不佳(260°C可长期使用，400°C可瞬时使用，最高耐压为0.3MPa)。所以，高分子薄膜作为窗口材料的X光催化反应炉，对反应气体没有限制但催化反应温度不高于500°C，压力不超过0.1MPa0目前除了高分子薄膜，还可使用纯铍片镀纳米级Al层作为窗口材料使用，但铍片价格高昂而且氧化铍粉末是剧毒物质，铍片在催化物与催化气体的作用下会很快污染，导致X光无法透入，严重时会发生铍片破裂等严重事故。
技术实现思路
本专利技术提出一种X光高温高压催化反应炉，可用于加热高温高压或有毒可燃还原性气本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，包括：气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道，所述气体进口通道通过连通孔与所述炉腔导通，所述炉腔内侧设置有屏蔽层，外壁上设置有窗口和铍窗法兰，所述窗口和所述铍窗法兰之间设置有保护层，所述保护层包括位于外侧的镀铝铍片层和位于内侧的高分子薄膜层，所述屏蔽层包括与保护层对应设置的铍片。

【技术特征摘要】
1.一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，包括:气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道，所述气体进口通道通过连通孔与所述炉腔导通，所述炉腔内侧设置有屏蔽层，外壁上设置有窗口和铍窗法兰，所述窗口和所述铍窗法兰之间设置有保护层，所述保护层包括位于外侧的镀铝铍片层和位于内侧的高分子薄膜层，所述屏蔽层包括与保护层对应设置的铍片。2.根据权利要求1所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述屏蔽层为不锈钢屏蔽层。3.根据权利要求1所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述气体进口通道的外侧均匀地连接有至少一个气体进口支管。4.根据权利要求3所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述炉上盖设置有至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：张晓哲，孙凡飞，姜政，
申请(专利权)人：沈阳迈维科技有限公司，
类型：发明
国别省市：