【技术实现步骤摘要】
真空镀膜用可移动式磁力装置
本技术涉及一种真空镀膜用可移动式磁力装置。
技术介绍
目前行业内真空镀膜常用的永磁铁一般均安装在冷却水槽内,位置固定不可移动,由于永磁铁产生的磁力线轰击靶材是垂直的,靶材的消耗一般是靶材垂直对应磁场的那部分,而靶材其他部分则不能得到有效利用,造成靶材耗用量大,浪费严重。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是:克服现有技术中之不足,提供一种能使靶材得到充分利用、降低成本的真空镀膜用可移动式磁力装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种真空镀膜用可移动式磁力装置,包括垂直设置的冷却基座、贴合安装在冷却基座侧表面的永磁铁,所述冷却基座上设有滑轨,永磁铁与冷却基座相贴的侧表面具有与滑轨相配的滑槽。进一步地,所述的永磁铁数量为两块,相距滑动设置在冷却基座侧表面。本技术的有益效果是:本技术通过移动永磁铁位置,可均匀地耗用靶材的各个部分,充分发挥靶 材的最大使用效率,降低成本,确保靶材消耗的均匀性。【附图说明】下面结合附图和实施方式对本技术进一步说明。图1是本技术的截面结构示意图。图中1.冷却基座2.永磁铁3.滑轨4.滑槽5.靶材6.移位装置【具体实施方式】现在结合附图对本技术作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本技术的基本结构,因此其仅显示与本技术有关的构成。如图1所示的一种真空镀膜用可移动式磁力装置,包括垂直设置冷却基座1,冷却基座I侧表面贴合安装有产生磁场的永磁铁2,永磁铁2数量为两块,相距滑动设置在冷却基座I侧表面,与永磁铁2正面相对并相距设置有经永磁铁2轰击后产生微粒子的靶材5,对应地,靶材5数量也为两 ...
【技术保护点】
一种真空镀膜用可移动式磁力装置,包括垂直设置的冷却基座(1)、贴合安装在冷却基座(1)侧表面的永磁铁(2),其特征是:所述冷却基座(1)上设有滑轨(4),永磁铁(2)与冷却基座(1)相贴的侧表面具有与滑轨(4)相配的滑槽(5)。
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜用可移动式磁力装置,包括垂直设置的冷却基座(I)、贴合安装在冷却基座(I)侧表面的永磁铁(2),其特征是:所述冷却基座(I)上设有滑轨(4),永磁铁(2)与冷却基座...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯新伟,
申请(专利权)人:江苏津通先锋光电显示技术有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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