【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种基于压力传感器的用于测量普朗克常量的实验设备，所述实验设备包括：光电头、光源、光源频率调节装置以及基座，其中，所述光电头包括金属片、薄膜式压力传感器和压力值输出器，所述基座支撑光电头和光源并且能够调节二者的位置和取向。本专利技术采用压力传感器来测量被照射金属表面所发射出的电子，而不是像现有技术中那样，测量电子所带来的电信号。相对于采用光电管测量电信号而言，采用压力传感器测压力不需要外加电压，且不需要阳极。因此，避免了阳极电流、暗电流和接触电位差，提高了实验精度。【专利说明】基于压力传感器的用于测量普朗克常量的实验设备
本专利技术涉及量子物理领域，具体涉及一种通过测量电子恰好无法逸出金属表面时的入射光的频率来求得普朗克常量的物理实验设备。
技术介绍
目前大学物理实验中测量普朗克常量的实验设备均采用光电效应来对普朗克常量进行测量。金属表面在光辐照作用下发射电子的效应称为光电效应，根据爱因斯坦光电效应方程Ek = h V -Ws,改变入射光频率，当入射光频率恰好无法使电子逸出金属表面时，即【权利要求】1.一种基于压力传感器的用于测量普朗克常量的实验设备，其特征在于，所述实验设备包括:光电头(I)、光源(7)、光源频率调节装置以及基座(12)，其中，所述光电头(I)包括金属片(2)、薄膜式压力传感器(3)和压力值输出器(5)，所述基座(12)支撑所述光电头(I)和所述光源(7)， 所述金属片(2)呈弧形，弧形的开口方向朝向所述薄膜式压力传感器(3); 所述薄膜式压力传感器(3)的中心处开有孔洞(4)； 所述光源(7)用...
【技术保护点】
一种基于压力传感器的用于测量普朗克常量的实验设备，其特征在于，所述实验设备包括：光电头（1）、光源（7）、光源频率调节装置以及基座（12），其中，所述光电头（1）包括金属片（2）、薄膜式压力传感器（3）和压力值输出器（5），所述基座（12）支撑所述光电头（1）和所述光源（7），所述金属片（2）呈弧形，弧形的开口方向朝向所述薄膜式压力传感器（3）；所述薄膜式压力传感器（3）的中心处开有孔洞（4）；所述光源（7）用于发射具有预定频率范围的光；所述光源频率调节装置与所述光源（7）集成在一起，用于接收所述光源（7）所发出的光并且对所接收到的光进行带通滤波，从而输出具有预定频率的输出光，并且所述光源频率调节装置能够调节所述输出光的频率，此外，所述光源频率调节装置将所述输出光指向所述薄膜式压力传感器（3）的中心处的孔洞（4），进而使所述输出光穿过薄膜式压力传感器（3）照射在所述金属片（2）的内表面上；所述金属片（2）接收来自所述光源（7）的并穿过所述薄膜式压力传感器（3）的孔洞（4）的输出光，并且在所述输出光的作用下相应地发射出电子；所述薄膜式压力传感器（3）接收所述金属片（2）发出的电子、测量由...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：潘梦莎，王启银，杨永刚，杨保东，罗昕，张金晔，张友玲，
申请(专利权)人：国家电网公司，山西省电力公司大同供电分公司，
类型：发明
国别省市：
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