【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光切割工艺的控制方法及执行该方法的激光切割系统本专利技术大体涉及激光切割工艺领域,并且更准确地涉及用于控制激光切割工艺的方法及执行该方法的激光切割系统。表述“激光切割工艺”对于本专利技术目的而言旨在是指这样的工艺,其中,聚焦在工件表面上或者在该表面附近的激光束使得被该激光束撞击的工件的材料的产生转变,以首先获得通孔然后获得从这个通孔开始的切割线。激光束相对于工件的相对运动决定该工艺涉及的材料的总面积、或体积。典型地,由于该工艺导致的材料的转变为机械型转变(变形)或者物理型转变(由于熔化、蒸发或者升华而导致的相变)并且由于以下两个主要因素而以可变的比例组合:a)由聚焦的激光束供应的热;以及b)由所谓的辅助气体导致的化学反应供应的热,假定这种反应是放热反应(典型地是燃烧反应,或者更一般地是涉及辅助气体与工件材料的化合的反应)。对于不允许提供在上文中以b)表示的热供应的情况,辅助气体是惰性气体(诸如例如N2、Ar或者He)并且具有屏蔽或者机械推进(即,它用来将由于激光束供应的热的原因而已经发生熔化、蒸发或者升华的材料吹走)的作用。相反,对于在上文中以b)表示的热供应必须等于或者大于总能量供应的40%的情况,辅助气体是反应性气体并且充当能量产出手段或者作为助燃物。在该情况下,辅助气体在激光加工工艺中的作用因此是借助于放热反应而对工艺产出能量,其中对工艺具有两个同时的效果:1)使所涉及的材料体积的温度的增大,这导致由于热效应而产生的状态的物理变化(增塑、熔化、蒸发或者升华);以及2)反应的自我维持,因为所涉及的材料体积的温度和可获得的热能保证了导致和维持放热反应所需 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.04.21 IT TO2011A0003521.用于激光切割工艺的控制方法,所述工艺通过由激光源(10)产生并且由激光头(12)聚焦的激光束来提供工件(P)的辐照,并且所述工艺通过所述激光头(12)的喷嘴(16)来提供辅助气体的流的供应, 所述控制方法包括以下步骤: a)检测由存在于被聚焦的激光束辐照的材料体积中的发射要素发射的辐射的波长信号,以及 b)基于检测到的信号来调节以下工艺控制参数中的至少一个:所述激光器的功率、激光脉冲的频率和占空比、所述辅助气体的压力、所述激光头(12)相对于所述工件(P)的相对速度、所述激光头(12)的所述喷嘴相距所述工件(P)的表面(S)的距离、以及所述激光束的焦点(F)相距所述工件(P)的所述表面(S)的距离。2.根据权利要求1所述的方法,其中,通过检测以至少一个预定波长带发射的辐射来执行步骤a),所述至少一个预定波长带介于从ISOnm到200nm的范围内并且具有不宽于IOOnm的带宽。3.根据权利要求1或者权利要求2所述的方法,其中,将所述辅助气体用作发射要素。4.根据权利要求1或者权利要求2所述的方法,其中,将存在于被所述聚焦的激光束辐照的所述材料体积中的杂质气体用作发射要素。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,将包含在所述工件(P)的材料中的金属要素或者在被所述聚焦的激光束辐照的所述材料体积中作为杂质而存在的金属要素用作发射要素。6.根据权利要求2所述的方法,其中,所述至少一个预定波长带包括777nm的波长。7.根据权利要求2或者权利要求6所述的方法,其中,所述至少一个预定波长带包括介于从500nm到600nm范围内的波长带。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,为了在切割的准备中执行穿孔操作,所述步骤b)包括以下子步骤: bl)在第一预定时间间隔内打开所述激光源(10),所述第一预定时间间隔在将氧气用作辅助气体的情况下介于从0.5毫秒到5毫秒的范围内,并且所述第一预定时间间隔在将除氧气之外的气体用作辅助气体的情况下介于从0.5毫秒到100毫秒的范围内; b2)在所述第一预定时间间隔终止时关闭所述激光源(10);以及 b3)等待直到检测到的波长信号已变成低于给定阈值,并且仅在这时重复子步骤bl)和b2)。9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述步骤b)以以下方式执行:如果在步骤a)中检测到的所述波长信号超过给定阈值,则这在使用惰性气体切割的情况下被解释为切口的局部闭合或者在使用反应性气体切割的情况下被解释为反应工艺的失去控制的开始,并且相应地改变至少一个前述的工艺控制参数;而如果在步骤a)中检测到的所述波长信号变得低于给定阈值,则这被解释为意味着所述工艺过慢,并且相应地改变至少一个前述的工艺控制参数。10.激光切割设备,包括: -激光源(10); -激光头(12),包括用于将由所述激光源(10)产生的激光束聚焦到工件(P)上的聚焦装置(14)及用于供应辅助气体的喷嘴(16); -光路,用于将由所述激光源(10)产生的所述激光束传送至所述激光头(12)的所述聚焦装置(14); -驱动装置,用于使所述激光头(12)和所述工件(P)以能调节的速度相对于彼此移动,并且用于控制所述辅助气体的压力、用于调节所述喷嘴(16)相距所述工件(P)的表面(S)的距离以及用于调节所述激光束的焦点(F)相对于所述工件(P)的所述表面(S)的位置;以及 -工艺控制装置,包括:传感器装置,用于检测由存在于被所述聚焦的激光束辐照的材料体积中的给定气体或给定材料发射的辐射的至少一个预定波长带;信号处理装置,用于处理由所述传感器装置检测到的信号;以及控制装置,用于基于由所述信号处理装置接收的所述信号来控制所述激光源(10)和/或所述驱动装置以调节以下工艺控制参数中的至少一个:所述激光器的功率、所述激光脉冲的频率和占空比、所述辅助气体的压力、所述激光头(1...
【专利技术属性】
技术研发人员:毛里齐奥·斯贝蒂,斯特凡诺·贝托尔迪,达尼埃莱·科隆博,芭芭拉·普雷维塔利,乔瓦尼·里瓦,马特奥·达内西,洛伦佐·莫利纳里·托萨蒂,迭戈·帕拉佐利,
申请(专利权)人:艾迪奇股份公司,
类型:
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