双楔角型退偏器制造技术

本实用新型专利技术提供了一种不会引起光路偏离的双楔角型退偏器，包括两块石英晶体，第一块石英晶体的第一面为入射光光面，第二面为倾斜面，与通光截面交线沿水平或竖直方向；所述第一块石英晶体的光轴平行于入射光光面，且与水平面成－30度夹角；所述第二块石英晶体的第一面与第一块石英晶体的第二面平行，并胶合或光胶在一起；所述第二块石英晶体的第二面为出射通光面，所述出射通光面与入射光光面平行，所述第二块石英晶体的光轴与通光方向垂直；所述第一块石英晶体的光轴与第二块石英晶体的光轴成60度夹角。本实用新型专利技术的双楔角型退偏器，对入射光波长不敏感，基本不会引起光路的偏离且稳定性好。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种双楔角型退偏器，其特征在于：包括两块石英晶体，第一块石英晶体的第一面为入射光光面，第二面为倾斜面，与通光截面交线沿水平或竖直方向；所述第一块石英晶体的光轴平行于入射光光面，且与水平面成?30度夹角；所述第二块石英晶体的第一面与第一块石英晶体的第二面平行，并胶合或光胶在一起；所述第二块石英晶体的第二面为出射通光面，所述出射通光面与入射光光面平行，所述第二块石英晶体的光轴与通光方向垂直，并且与水平方向成+30度夹角；所述第一块石英晶体的光轴与第二块石英晶体的光轴成60度夹角。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：肖志全，张勇，
申请(专利权)人：武汉优光科技有限责任公司，
类型：实用新型
国别省市：