一种GaN基探测器制造技术

技术编号:9347682 阅读:151 留言:0更新日期:2013-11-13 23:39
本实用新型专利技术公开了一种GaN基探测器,属于半导体技术领域。所述探测器包括:衬底、生长在所述衬底上的外延层、以及设于所述外延层上的n型电极和p型电极,所述外延层包括依次层叠在所述衬底上的不掺杂的GaN层、n型层、GaN有源层和p型层,所述n型电极设于所述n型层上,所述外延层还包括设于所述p型层上的IGZO层,所述p型电极设于所述IGZO层上。本实用新型专利技术通过在p型层上设置IGZO层,p型电极设于IGZO层上,使得p型电极通过IGZO层与p型层接触,由于IGZO层的载流子迁移率较高,从而与p型电极形成了良好的欧姆接触,提升了探测器的响应速度和稳定性。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种GaN基探测器,所述探测器包括衬底、生长在所述衬底上的外延层、以及设于所述外延层上的n型电极和p型电极,所述外延层包括依次层叠在所述衬底上的不掺杂的GaN层、n型层、GaN有源层和p型层,所述n型电极设于所述n型层上,其特征在于,所述外延层还包括设于所述p型层上的IGZO层,所述p型电极设于所述IGZO层上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:桂宇畅
申请(专利权)人:华灿光电股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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