立轴密封结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种立轴密封结构，包括设置在轴承座与立轴之间的密封挡圈，所述轴承座的内侧面上靠近密封挡圈的位置开设有多个用于构成迷宫结构的凹槽一，所述密封挡圈外侧面的下部设置有用于引导粉尘偏离密封挡圈的粉尘引导面，所述轴承座的下端设置有粉尘反弹面。该立轴密封结构能够使进入迷宫结构的粉尘减少，提高了密封效果。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
立轴密封结构，包括设置在轴承座（1）与立轴（3）之间的密封挡圈（4），所述轴承座（1）的内侧面上靠近密封挡圈（4）的位置开设有多个用于构成迷宫结构的凹槽一（2），其特征在于：所述密封挡圈（4）外侧面的下部设置有用于引导粉尘偏离密封挡圈（4）的粉尘引导面（4?1），所述轴承座（1）的下端设置有粉尘反弹面（1?1）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘建锋，徐致雄，张博，渠敬锋，
申请(专利权)人：西安英威腾合升动力科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：