一种完全自回流井式AAO污水处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种完全自回流井式AAO污水处理装置。包括井体和二次沉淀池；井体包括井筒和互逆曝气系统，井筒外壁为防渗墙，井筒内部空间用隔板分成空间比例为1:4的两侧，一侧为厌氧区，其顶部设进水管，井筒底部为设有重力排泥管的中间沉淀区；另一侧安装互逆曝气系统，互逆曝气系统包括向上曝气头、向下曝气头和曝气装置，以上曝气头为界分为缺氧区和好氧区；厌氧区:缺氧区:好氧区体积比为1:1:3；井筒上部外围设有二次沉淀池、污泥回流孔和出水孔，二次沉淀池外围设有溢水堰和集水槽，集水槽底部设置出水管，二次沉淀池底部设置排泥管。本实用新型专利技术装置构造简单，降低基建和运行成本，达到环保、节能、高效的水处理效果。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种完全自回流井式AAO污水处理装置，其特征在于包括井体和二次沉淀池(13)；井体包括井筒和互逆曝气系统，井筒外壁为防渗墙(4)，井筒内部空间用隔板(3)分成空间比例为1:4的两侧，空间比例为1的一侧为厌氧区(2)，厌氧区(2)顶部设进水管(1)，井筒底部为中间沉淀区(5)，中间沉淀区(5)设有重力排泥管(6)；空间比例为4的一侧安装互逆曝气系统，互逆曝气系统包括向上曝气头(8)、向下曝气头(10)和曝气装置(11)，向上曝气头(8)以下的部分为缺氧区(7)，向上曝气头(8)以上的部分为好氧区(9)；厌氧区(2):缺氧区(7):好氧区(9)的体积比为1:1:3；井筒上部外围设有二次沉淀池(13)，二次沉淀池(13)与厌氧区(2)的接触区设有污泥回流孔(14)，二次沉淀池(13)与好氧区(9)的接触区设有出水孔(12)，二次沉淀池(13)外围设有集水槽(16)，二次沉淀池(13)与集水槽(16)间设置溢水堰(15)，集水槽(16)底部设置出水管(17)，二次沉淀池(13)底部设置排泥管(18)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张庆军，张学洪，徐铭泽，游少鸿，林华，刘杰，李艳红，唐沈，
申请(专利权)人：桂林理工大学，
类型：实用新型
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