离子注入设备制造技术

本发明专利技术公开了一种离子注入设备，其包括用于引出离子束的离子源系统以及一用于传输离子束的离子束传输系统，该离子束传输系统的物理边界在至少一个开放方向上单向开放或双向开放，该至少一个开放方向垂直于离子束的传输路径。本发明专利技术在保证离子束传输系统高质量地对离子束进行传输的前提之下，使得该离子束传输系统适于传输的离子束的尺寸不再受到各种束流光学元件的物理边界的限制，而是可以根据加工需求灵活地进行改变，甚至还能够适用于采用多个并行排列的离子源系统的场合，由此实现了仅凭一个离子注入设备来应对各种多样的加工需求的目的，省去了购买多个针对单一加工需求而专门设计的离子注入设备的购买成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种离子注入设备，其包括用于引出离子束的离子源系统以及一用于传输离子束的离子束传输系统，其特征在于，该离子束传输系统的物理边界在至少一个开放方向上单向开放或双向开放，该至少一个开放方向垂直于离子束的传输路径。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈炯，
申请(专利权)人：上海凯世通半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：