光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件制造技术

本发明专利技术涉及光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件。一种光硬化性聚硅氧烷组成物，包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、吡啶衍生物(C)，及溶剂(D)；该吡啶衍生物(C)具有如式(II)所示的结构：在式(II)中，R1～R5中有1至3个为相同或不同的C1～C6羟烷基，其余为相同或不同且分别表示氢或C1～C6烷基，且由该光硬化性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜具有良好的耐显影性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，所述光硬化性聚硅氧烷组成物包含：聚硅氧烷高分子(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；吡啶衍生物(C)；和溶剂(D)；所述吡啶衍生物(C)具有如式(II)所示的结构：在式(II)中，R1～R5中有1至3个为相同或不同的C1～C6羟烷基，其余为相同或不同且分别表示氢或C1～C6烷基。FDA00003074592100011.jpg

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴明儒，施俊安，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：