摄像机罩及摄像机制造技术

本实用新型专利技术提供能够减少水滴和污垢的附着并确保图像的清晰度的摄像机罩和摄像机。摄像机罩的圆顶部(130)在外表面(131a)具有由以硅化合物为主要成分的无机材料构成的亲水涂层(131)，亲水涂层(131)的膜厚为0.01～1μm，并且，亲水涂层(131)的表面粗糙度Ra为0.06μm以下。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
摄像机罩，是由覆盖摄像机部的树脂基板构成的摄像机罩，所述摄像机罩的外表面具有由以硅化合物为主要成分的无机材料构成的亲水涂层，所述亲水涂层的膜厚是0.01～1μm，并且，所述亲水涂层表面的中心线平均粗糙度Ra为0.06μm以下。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吉野丰一，安田秀树，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：实用新型
国别省市：