一种X射线辐射探测器用闪烁屏结构制造技术

本发明专利技术涉及一种X射线辐射探测器用闪烁屏结构，包括硅衬底；在所述硅衬底上通过激光蒸镀工艺沉积碘化铯杂化膜，所述碘化铯杂化膜为掺杂铊和硼的碘化铯厚膜；并且在所述碘化铯厚膜上沉积有透明阻水膜，所述透明阻水膜的可见光透过率≥90%，水蒸气透过率≤0.01g?m-2?day-1。本发明专利技术所述的X射线辐射探测器用闪烁屏结构，不但所述的闪烁屏结构致密、成分均匀、与衬底的粘结性良好，而且所述的封装结构具有优异的阻水防水性能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种X射线辐射探测器用闪烁屏结构，包括硅衬底；其特征在于在所述硅衬底上通过激光蒸镀工艺沉积碘化铯杂化膜，所述碘化铯杂化膜为掺杂铊和硼的碘化铯厚膜；并且在所述碘化铯厚膜上沉积有透明阻水膜，所述透明阻水膜的可见光透过率≥90%，水蒸气透过率≤0.01g?m?2?day?1。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：梁栌伊，
申请(专利权)人：梁栌伊，
类型：发明
国别省市：