Ti-Ta-Hf系铁基非晶合金薄带及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种Ti-Ta-Hf系铁基非晶合金薄带，其特征在于：其组成各元素的原子百分比为：Ti8-10、Ta4-6、Hf1-2、Nb0.06-0.08、V0.2-0.4、Mo1.5-1.8、Ga1.2-1.4、Fe余量。本发明专利技术制备非晶带材与常规的非晶带材制备方法相似，本申请以Ti-Ta-Hf为基础掺杂材料，添加V、Mo等其它成分，优化热处理工艺，明显改善非晶合金带材的应力分配，使得本发明专利技术非晶合金材料具有优良的韧性、良好的塑性、优异的软磁性能和良好的非晶形成能力，可广泛应用于各种非晶薄带圆环材料。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种Ti?Ta?Hf系铁基非晶合金薄带，其特征在于：其组成各元素的原子百分比为：Ti8?10、Ta4?6、Hf1?2、Nb0.06?0.08、V0.2?0.4、Mo1.5?1.8、Ga1.2?1.4、Fe余量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王军松，
申请(专利权)人：全椒君鸿软磁材料有限公司，
类型：发明
国别省市：