涂胶处理系统和涂胶处理方法技术方案

技术编号:9190405 阅读:169 留言:0更新日期:2013-09-25 18:36
本发明专利技术提供一种涂胶处理系统和涂胶处理方法。所述的涂胶处理系统包括:第一真空腔室;对进入所述第一真空腔室的液晶面板在真空环境下进行胶体涂覆处理的涂胶控制装置。所述的涂胶处理方法包括:在处于真空状态的第一真空腔体内对液晶面板涂胶。本发明专利技术能够较大程度避免了液晶面板涂胶时fan-out区(周边布线区)产生气泡。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种涂胶处理系统,其特征在于,包括:第一真空腔室;涂胶控制装置,所述涂胶控制装置用于对进入所述第一真空腔室的液晶面板在真空环境下进行胶体涂覆处理;与所述第一真空腔体连接的第一过渡腔室,所述第一过渡腔室具有第一腔门和第二腔门;液晶面板通过所述第一腔门进入所述第一过渡腔室,并通过所述第二腔门从所述第一过渡腔室进入所述第一真空腔体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:夏龙王慧龚占双
申请(专利权)人:合肥京东方光电科技有限公司京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1