【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种上电极装置，应用于镀膜工艺中，其特征在于，包括：分流腔和至少三个气体分流板；所述分流腔上设置有进气孔；所述至少三个气体分流板固定设置在所述分流腔的内壁上，以将通过所述进气孔导入所述分流腔的气体均匀分流后导出该分流腔。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：许修齐，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：
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