一种电子器件的真空镀膜工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种电子器件的真空镀膜工艺：将清洁的基体放入真空容器中、抽真空到10-4Pa、通入高纯氩气至0.5Pa；采用线形离子源照射，离子源电压1500V，偏压600V，时间5分钟；通过直流溅射纯铝：直流溅射电压400V，电流15A，偏压600V，时间2分钟；采用线形离子源照射，离子源电压750V，偏压600V，时间2分钟；采用直流溅射铝铜比为1∶1的合金：电压400V，电流18A，时间3分钟；直流溅射纯铜：电压400V，电流25A，时间24分钟；直流溅射纯银：电压350V，电流20A，时间8分钟；直流溅射铜钼比为4∶1的合金：电压300V，电流10A，时间1分钟。本工艺污染小，镀膜后镀层和基体结合力高、耐腐蚀力强。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种电子器件的真空镀膜工艺，包含以下步骤：(1)将清洁的基体放入真空容器中、抽真空到10?4Pa、通入高纯氩气至0.5Pa；(2)线形离子源照射，离子源电压1500V，偏压600V，时间5分钟；(3)直流溅射纯铝：直流溅射电压400V，电流15A，偏压600V，时间2分钟；(4)线形离子源照射，离子源电压750V，偏压600V，时间2分钟；(5)直流溅射铝铜合金：电压400V，电流18A，时间3分钟；(6)直流溅射纯铜：电压400V，电流25A，时间24分钟；(7)直流溅射纯银：电压350V，电流20A，时间8分钟；(8)直流溅射铜钼合金：电压300V，电流10A，时间1分钟。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：狄国庆，邓波，
申请(专利权)人：苏州奕光薄膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：