两级式补正装置及曝光机基座制造方法及图纸

本公开提供一种两级补正的曝光机基座，包括曝光基座、基板保持台面；其包括一级补正装置及二级补正装置；一级补正装置位于曝光基座与承载台之间；二级补正装置位于曝光基座与基板保持台面之间。不仅在曝光基座与承载台之间设置补正装置。于曝光基座与保持台面中间也加装有补正装置，若需补正的量较小，曝光基座的补正装置即可直接补正。若补正量较大无法单一通过基座补正时，剩余需补正的量就由保持台面下的第二补正装置进行补正。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种两级式补正装置，其包括一级补正装置及二级补正装置；一级补正装置位于基座与下部台面之间；二级补正装置位于基座与上部台面之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄章咏，刘健行，刘刚，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：