【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，其特征在于：所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；一密封壳体，所述密封壳体位于所述真空腔内，且所述密封壳体用于密封所述电子学系统，阻挡所述电子学系统所形成的污染物进入所述真空腔中。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：宗明成，孙裕文，徐天伟，黄有为，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：
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