一种连续能谱电子源的制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种连续能谱电子源的制造装置，属于空间应用技术领域。所述装置为在电子枪下施加一个电子束散射薄膜，所述薄膜为一面镀有铝层，另一面镀有同心银环的Kapton薄膜；实际使用时，将装有所述电子束散射薄膜的铝盘和电子枪安装在真空室内，通过导线将铝盘接地；给真空室抽真空至10-4Pa，开启电子枪，使电子枪发射单能电子束，所述单能电子束穿过电子束散射薄膜后，得到具有连续能谱的电子束。能够比较真实的模拟空间电子环境，适用于卫星表面充放电实验的使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种连续能谱电子源的制造装置，属于空间应用

技术介绍
地球同步轨道(GEO)空间等离子体环境会对飞行器表面材料充电，从而引起空间静电放电(SESD)，造成敏感电子系统的干扰以及非指令性开关等事件。而鉴定空间材料带电效应的最有效的方法就是地面模拟空间实际环境，进行地面模拟试验对卫星空间使用材料进行评价。GEO存在的是连续能谱的电子环境，而地面模拟试验中使用的多是单能电子枪。在轨数据表明:采用单能电子枪的模拟试验与真实在轨的监测数据存在着较大的差别。例如，SCATHA卫星和DSP卫星的在轨数据表明，实际空间静电放电的发生时间和地面模拟试验并不一致。文献“Electron-beam-charged dieIectrics-1nternal charge distribution”石开究表明，其主要是由于入射电子能谱不同，材料内部的电场强度存在差别导致了地面试验和空间在轨实际情况的差别。当一束能量为数十keV的单能电子束照射到金属靶时，将会有20% 30%的电子被散射，剩下的部分电子将穿透金属或停留在金属内不同的位置。如果金属的厚度足够薄，部分电子将完全穿透金属并产本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连续能谱电子源的制造装置，其特征在于：所述装置为在电子枪下施加一个圆形的电子束散射薄膜，薄膜一面镀有同心银环（8），另一面镀有铝层，电子枪发射端与薄膜镀有同心银环（8）的一面相对，所述薄膜为Kapton薄膜（9）。

【技术特征摘要】
1.一种连续能谱电子源的制造装置，其特征在于:所述装置为在电子枪下施加一个圆形的电子束散射薄膜，薄膜一面镀有同心银环(8)，另一面镀有铝层，电子枪发射端与薄膜镀有同心银环(8)的一面相对，所述薄膜为Kapton薄膜(9)。2.根据权利要求1所述的一种连续能谱电子源的制造装置，其特征在于:所述同心银环(8)为一层或一层以上，在同一个银环的不同层之间，宽度从下往上依次递减。3.根据权利要求1或2所述的一种连续能谱电子源的制造装置，其特征在于:在铝盘上开设通孔，在通孔中安装所述电子束散射薄膜，并将铝盘安装在单能电子枪的外加速栅极正下方，电子枪发射端与同心银环(8)的中心相对，同时将铝盘接地。4.根据权利要求3所述的一种连续能谱电子源的制造装置，其特征在于:所述铝盘上开设通孔的直径为50mm，所述电子枪发射端到电子束散射薄膜的距离为50mm。5.根据权利要求1或2所述的一种连续能谱电子源的制造装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：汤道坦，李得天，杨生胜，秦晓刚，李存惠，柳青，
申请(专利权)人：兰州空间技术物理研究所，
类型：发明
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