【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学元件在真空环境下的抗激光损伤性能的测试领域，具体涉及。
技术介绍
光学元件在激光加工、激光武器以及高功率激光系统等领域有着广泛的应用，是光学系统中必不可少的基本元件。而随着激光器输出能量的不断提高，光学元件的激光损伤阈值已成为制约强激光技术进一步发展的关键因素，也是限制激光技术向高能量、高功率方向发展的薄弱环节。为了深入分析光学元件的损伤性能和损伤机制，准确评价光学元件的抗激光损伤能力，需要不断地发展和完善激光损伤阈值的测量技术，从而指导薄膜制备工艺的优化和改进。随着激光系统在空间领域和真空环境的广泛应用，光学薄膜元件在真空环境下的应用越来越广泛，真空环境下光学薄膜元件的激光损伤特性相对于大气环境下的损伤特性具有其自身的特殊性，在真空环境下影响光学薄膜元件的激光损伤的因素大大增加。真空环境下存在一些特殊的过程，如材料的放气过程、激光辐照材料的分解过程和游离粒子的附着过程等，从而使得光学 薄膜元件在真空环境下的激光损伤阈值很大程度的降低。然而在真空环境下光学薄膜元件的抗激光辐照能力直接关系到激光系统能否在真空和空间环境中运行成功。所以研究真空环...
【技术保护点】
一种真空环境下高效率多功能的损伤阈值测量装置，其特征在于包括：Nd:YAG激光器(1)、He?Ne探测激光器(2)、压力探测元件(6)、真空腔(7)、第一CCD相机(10)、高倍显微镜(12)、电机系统(14)、被测样品(16)、光电探测元件?(18)、?第二CCD相机(19)和计算机(20)，其中：真空腔(7)固定于电机系统(14)上，真空腔(7)一侧水平设有激光入射窗口(3)，另一侧水平设有激光出射窗口(9)，一侧中上方设有探测激光入射窗口(4)，一侧中下方设有探测激光出射窗口(17)，顶部设有压力探测窗口(5)，另一侧中下方设有CCD相机监测窗口(11)，另一侧中上方...
【技术特征摘要】
1.一种真空环境下高效率多功能的损伤阈值测量装置，其特征在于包括:Nd:YAG激光器⑴、He-Ne探测激光器(2)、压力探测元件(6)、真空腔(7)、第一 CXD相机(10)、高倍显微镜(12)、电机系统(14)、被测样品(16)、光电探测元件(18)、第二 CCD相机(19)和计算机(20)，其中:真空腔(7)固定于电机系统(14)上，真空腔(7) —侧水平设有激光入射窗口(3)，另一侧水平设有激光出射窗口(9)，一侧中上方设有探测激光入射窗口(4)，一侧中下方设有探测激光出射窗口(17)，顶部设有压力探测窗口(5)，另一侧中下方设有CCD相机监测窗口(11)，另一侧中上方设有真空泵窗口(8)，下方设有离线观察窗口(13)，真空腔(7)内设置有旋转样品台(15)，被测样品放置于旋转样品台(15)上；探测激光入射窗口(4)放置有He-Ne探测激光器(2)，探测激光出射窗口(17)放置有光电探测元件(18)和第二 CXD相机(19)，压力探测窗口(5)放置有压力探测元件出)，CCD相机监测窗口(11)放置第一CCD相机(10)，离线观察窗口 (13)安装有高倍显微镜(12)，Nd = YAG激光器(I)、压力探测兀件(6)、第一 CCD相机(10)、高倍显微镜(12)、电机系统(14)、光电探测兀件(18)、第二CCD相机(19)分别连接计算机(20)，Nd:YAG激光器⑴的出光口对准激光入射窗口(3)的进光口，当被测样品(16)放置在激光入射窗口(3)位置时，通过第二 CCD相机(19)对被测样品(16)表面实时摄像；当被测样品(16)旋转至激光出射窗口(9)位置时，通过第一 CCD相机(10)对被测样品(16)表面实时摄像；当被测样品(16)旋转至离线观察窗口(13)时，通过高倍显微镜(12)对被测样品(16)进行离线观察分析。2.根据权利要求1所述的一种真空环境下高效率多功能的损伤阈值测量装置，其特征在于所述电机系统(14)包括电动平移台和旋转电机；真空腔(7)位于电动平移台上方，真空腔(7)和被测样品(16)整体通过电动平移台控制做水平或竖直方向的运动。3.根据权利要求1所述的一种真空环境下高效率多功能的损伤阈...
【专利技术属性】
技术研发人员：马彬，马宏平，程鑫彬，鲍刚华，宋智，焦宏飞，王占山，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：
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