一种粉体拦截装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种粉体拦截装置，用于回收气态的溶剂中携带的粉体。上述粉体拦截装置包括：用于输送液态的溶剂的第一输送管线；用于输送气态的溶剂的第二输送管线；用于喷洒液态的溶剂的喷嘴，喷嘴与第一输送管线相连，且喷嘴靠近第二输送管线的进气口设置。可见，在气态溶剂进入第二输送管线的同时，喷嘴向该处的气态溶剂中喷淋与该气态溶剂成分相同的液态溶剂。在喷淋过程中，雾化的液态溶剂会在粉体上凝结，并促成粉体的聚集以形成大颗粒，便于沉积，从而令气态溶剂在第二输送管线的进气口处便进行了净化，使其携带的粉体不再进入后续管线和设备，避免对后续管线和设备造成堵塞。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及物料回收领域，特别涉及一种粉体拦截装置。 
技术介绍
多晶硅是由大量结晶学方向不相同的硅单晶体组成的硅晶体，是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅。 多晶硅的生产技术主要为改良西门子法和硅烷法。硅烷法是将硅烷通入以多晶硅晶种作为籽晶的化学沉积反应器中，使硅烷裂解并在晶种上沉积，从而得到颗粒状多晶硅。其中，硅烷有多种制法，目前主流的生产工艺有：硅镁合金法工艺、氯硅烷歧化工艺和金属氢化物工艺三种。其中，金属氢化物工艺为：采用氢化铝钠（化学式为NaAlH4）与四氟化硅（化学式为SiF4）气体反应合成硅烷（化学是为SiH4）气体，该化学反应方程式为NaAlH4+SiF4——>NaAlF4+SiH4，反应生产的粗硅烷气体经纯化精制，把粗硅烷气体纯度提升到6N以上的高纯度电子级硅烷气体，再经过低温液化处理制得的液态硅烷储存在产品硅烷储槽内，通过蒸发液态的硅烷气体变成常温的硅烷气体，供给多晶硅生产工段使用。 在硅烷法制备多晶硅的过程中，将氢化铝钠以1,2-二甲氧基乙烷与甲苯的混合溶液溶解，与气体四氟化硅反应，最后生成硅烷和氟化铝钠浆料，然后，将氟化铝钠浆料在干燥器中进行干燥，氟化铝钠浆料经过干燥进行分离，氟化铝钠形成粉体，甲苯和1,2-二甲氧基乙烷混合溶剂以气态形式经冷却液化进行回收。其中，粉体是指小于一定粒径的颗粒集合，是一种干燥且分散的固体颗粒组成的细微粒子，和颗粒不完全相同，通俗来说粉体比颗粒具有更细微的粒径尺寸。但是，在实际生产过程中，在干燥器的气态溶剂出口，气态溶剂中携带了一部分未完全分离的氟化铝钠粉体，氟化铝钠粉体进入后续管线和设备会造成管线或设备的堵塞，影响产品质量和产量。 因此，如何清除气态溶剂中的粉体，以避免粉体对管线或设备的堵塞，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。 
技术实现思路
有鉴于此，本技术公开了一种粉体拦截装置，能够有效地清除气态溶剂中携带的粉体，避免粉体在管线或设备中的堵塞。 为实现上述目的，本技术提供如下技术方案： 一种粉体拦截装置，用于回收气态的溶剂中携带的粉体，包括： 用于输送液态的所述溶剂的第一输送管线； 用于输送气态的所述溶剂的第二输送管线； 用于喷洒液态的所述溶剂的喷嘴，所述喷嘴与所述第一输送管线相连，并且，所述喷嘴靠近所述第二输送管线的进气口设置。 优选地，在上述粉体拦截装置中，所述喷嘴位于所述第二输送管线内。 优选地，在上述粉体拦截装置中，所述第二输送管线上设置有与所述第一输送管线的直径适配的管线穿孔，所述第一输送管线通过所述管线穿孔进入所述第二输送管线内。 优选地，在上述粉体拦截装置中，所述管线穿孔外侧设置有第一连接法兰，所述第一输送管线外壁套设有第二连接法兰，所述第二连接法兰与所述第一输送管线固定连接，并且，所述第一输送管线、所述第二连接法兰与所述第一连接法兰同轴设置，所述第二连接法兰与所述第一连接法兰固定连接。位置固定良好 优选地，在上述粉体拦截装置中，所述喷嘴的喷淋方向与气态的所述溶剂的输送方向相反。 优选地，在上述粉体拦截装置中，所述第二输送管线的进气端管段为缩颈管，并且，沿气态的所述溶剂的输送方向，所述缩颈管的横截面面积逐渐缩小，所述喷嘴（4）设置于所述缩颈管内。 优选地，在上述粉体拦截装置中，所述喷嘴通过螺纹连接或焊接的方式与所述第一输送管线连接。 从上述的技术方案可以看出，本技术实施例提供的粉体拦截装置中，在用于输送气态溶剂的第二输送管线的进气口处设置有喷嘴，在气态溶剂进入第二输送管线的同时，喷嘴向第二输送管线进气口处的气态溶剂中喷淋与该气态溶剂成分相同的液态溶剂。在喷淋过程中，液态溶剂通过喷嘴产生雾化，形成小液滴，小液滴遇到气态溶剂时，会有少量气态溶剂与小液滴进行热量交换，冷却为液态，同时，小液滴遇到气态溶剂中携带的粉体时，会在粉体上凝结，并促成粉体的聚集，粉体形成大颗粒后，便更加容易沉积，从而令气态溶剂在第二输送管线的进气口处便进行了净化，使其携带的粉体不再进入后续管线和设备，避免对后续管线和设备造成堵塞。 附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 图1为本技术实施例提供的粉体拦截装置的结构示意图； 图2为为本技术实施例提供的粉体拦截装置的工作示意图。 具体实施方式本技术公开了一种粉体拦截装置，能够有效地清除气态溶剂中携带的粉体，避免粉体在管线或设备中的堵塞。 下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。 请参阅图1和图2，图1为本技术实施例提供的粉体拦截装置的结构示意图，图2为为本技术实施例提供的粉体拦截装置的工作示意图。 本技术实施例提供的粉体拦截装置，用于回收气态的溶剂中携带的粉体，该粉体拦截装置包括第一输送管线1、第二输送管线5和喷嘴4。其中，第一输送管线1用于输送液态的溶剂，第二输送管线5输送气态的溶剂，喷嘴4与第一输送管线1相连，且靠近第二输送管线5的进气口设置，用于喷洒液态的溶剂。 可见，本技术实施例提供的粉体拦截装置中，在用于输送气态溶剂的第二输送管线5的进气口处设置有喷嘴4，在气态溶剂进入第二输送管线5的同时，喷嘴4向第二输送管线5进气口处的气态溶剂中喷淋与该气态溶剂成分相同的液态溶剂。在喷淋过程中，液态溶剂通过喷嘴产生雾化效果，形成小液滴，小液滴遇到气态溶剂时，会有少量气态溶剂与小液滴进行热量交换，冷却为液态，同时，小液滴遇到气态溶剂中携带的粉体时，会在粉体上凝结，并促成粉体的聚集，粉体形成大颗粒后便更加容易沉积，从而令气态溶剂在第二输送管线5的进气口处便进行了净化，使其携带的粉体不再进入后续管线和设备，避免对后续管线和设备造成堵塞。 为了进一步优化上述技术方案，本技术实施例提供的粉体拦截装置中的喷嘴4位于第二输送管线5内，直接对第二输送管线5内进行输送的气态溶剂进行净化，具有更好的分离效果。进一步地，如图1和图2中所示，第二输送管线5的进气端管段为缩颈管，并且，沿气态的溶剂的输送方向，缩颈管的横截面面积逐渐缩小，并且喷嘴4位于该缩颈管管段内，从而具有较大的喷淋面积。此外，在安装缩颈管时，应注意令其下侧管壁的延伸方向沿气流的输送方向逐渐升高，以便于沉积的粉体在第二输送管线5的进气口处由于受重力作用而自行滑落，避免堵塞第二输送管线5本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粉体拦截装置，用于回收气态的溶剂中携带的粉体，其特征在于，包括：用于输送液态的所述溶剂的第一输送管线（1）；用于输送气态的所述溶剂的第二输送管线（5）；用于喷洒液态的所述溶剂的喷嘴（4），所述喷嘴（4）与所述第一输送管线（1）相连，并且，所述喷嘴（4）靠近所述第二输送管线（5）的进气口设置。

【技术特征摘要】
1.一种粉体拦截装置，用于回收气态的溶剂中携带的粉体，其特征在于，
包括：
用于输送液态的所述溶剂的第一输送管线（1）；
用于输送气态的所述溶剂的第二输送管线（5）；
用于喷洒液态的所述溶剂的喷嘴（4），所述喷嘴（4）与所述第一输送
管线（1）相连，并且，所述喷嘴（4）靠近所述第二输送管线（5）的进气口
设置。
2.根据权利要求1所述的粉体拦截装置，其特征在于，所述喷嘴（4）
位于所述第二输送管线（5）内。
3.根据权利要求2所述的粉体拦截装置，其特征在于，所述第二输送管
线（5）上设置有与所述第一输送管线（1）的直径适配的管线穿孔，所述第
一输送管线（1）通过所述管线穿孔进入所述第二输送管线（5）内。
4.根据权利要求3所述的粉体拦截装置，其特征在于，所述管线穿孔外
侧设置有第一连...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘新玉，薛明，李占良，王朝，
申请(专利权)人：六九硅业有限公司，
类型：实用新型
国别省市：