等离子体涡流发生器制造技术

本发明专利技术提出一种等离子体涡流发生器，通过在控制体表面分离区前缘处沿展向贴附的一个以上的等离子体激励器实现。各等离子体激励器的长向方向与自由来流成0～45度夹角。等离子体激励器的上层裸露电极相对下层覆盖电极，位于上游；在等离子体激励器的宽向上，覆盖电极所处位置与裸露电极所处位置不重叠。等离子体激励器产生由裸露电极指向覆盖电极的壁面射流，壁面射流与自然来流相互作用生成沿自由来流方向的漩涡。本发明专利技术相比传统涡流发生器不会引起附加阻力的问题，且结构更加简单，易于安装实现，不需要额外的气源，同时可以实现对机翼增升的实时主动控制以及非定常控制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及涡流发生器，具体涉及一种新型的等离子体涡流发生器，具体是通过一个或多个等离子体激励器诱导射流与主流产生作用形成沿流向旋涡，增强了边界层内部与来流之间的动量交换，从而抑制或延缓流动分离。
技术介绍
在航空工程领域，流动分离控制技术一直是研究人员关注的焦点。涡流发生器作为一种常用的控制流动分离方法，通过产生涡，使边界层外主流中高动量的气流与近壁区低动量的气流进行交换或平衡，从而使边界层内部气流动量增加，进而阻止逆压梯度形成的边界层分离。早期涡流发生器由一排小扰流片组成，如图1所示，这些扰流片3垂直安置在控制体表面I上，并与来流方向2有一定的安装偏角，主流流过绕流片后，产生流向涡。这种固体涡流发生器逐渐被广泛应用于延缓边界层分离，提高机翼升力，减少机身后体阻力，以及消除或延迟亚音速进气道扩压段分离等。然而其作为一种被动流动控制技术，缺点是工作时无法根据不同的实际情况进行调节，效率容易受流动状态变化影响，在非设计状态下会带来额外的阻力或者付出其他的代价。射流型涡流发生器相比于固体涡流发生器，可以通过对多种射流参数人为地改变，进而对不同的流动状态具有更好的适应性，在不需要的时候本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体涡流发生器，其特征在于，该涡流发生器包括在控制体表面分离区前缘处沿展向贴附的一个以上的等离子体激励器，各等离子体激励器的长向方向与自由来流成夹角θ，θ为0～45度；所述的等离子体激励器包括三层介质，上层为裸露电极，中间层为绝缘介质，下层为覆盖电极；在等离子体激励器长向上，裸露电极和覆盖电极的长度相同，绝缘介质的长度比裸露电极和覆盖电极的长度长；在等离子体激励器的宽向上，覆盖电极所处位置与裸露电极所处位置不重叠；裸露电极和覆盖电极之间施加高压高频正弦交流电源；裸露电极相对覆盖电极位于上游，指定自由来流的速度所指方向为下游，相反方向为上游。

【技术特征摘要】
1.一种等离子体涡流发生器，其特征在于，该涡流发生器包括在控制体表面分离区前缘处沿展向贴附的一个以上的等离子体激励器，各等离子体激励器的长向方向与自由来流成夹角θ，Θ为O 45度；所述的等离子体激励器包括三层介质，上层为裸露电极，中间层为绝缘介质，下层为覆盖电极；在等离子体激励器长向上，裸露电极和覆盖电极的长度相同，绝缘介质的长度比裸露电极和覆盖电极的长度长；在等离子体激励器的宽向上，覆盖电极所处位置与裸露电极所处位置不重叠；裸露电极和覆盖电极之间施加高压高频正弦交流电源；裸露电极相对覆盖电极位于上游，指定自由来流的速度所指方向为下游，相反方向为上游。2.根据权利要求1所述的等离子体涡流发生器，其特征在于，所述的等离子体激励器的个数为偶数，每两个等离子体激励器成组对称布置，每组等离子体激励器再等距布置。3.根据权利要求1所述的等离子体涡流发生器，其特征在于，所述的等离子体激励器等距布置。4.根据权利要求1或2或3所述的等离子体涡流发生器，其特征在于，所述的裸露电极及覆盖电极的宽度均为控制体表面展长的1%到5%，且裸露电极的宽度小于覆盖电极的宽度；裸露电极与覆盖电极之间的间隙为O毫米到8毫米。5.根据权利要求4所述的等...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯立好，王晋军，史涛瑜，刘亚光，
申请(专利权)人：北京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：