本实用新型专利技术公开了一种研磨液供应装置，它包括机架，该机架上装有用于储存研磨液的储液桶，该储液桶上连有至少一根与储液桶的内腔相连通的供液管，所述供液管上设有沿研磨液流向依次布置的泵和供液阀，还包括回液管，该回液管的一端与所述泵和所述供液阀之间的供液管管段相连通，另一端与所述储液桶的内腔相连通。本实用新型专利技术的研磨液供应装置不易在储液桶内产生沉淀。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学机械设备领域，具体涉及一种研磨液供应装置。
技术介绍
随着半导体行业的发展，集成电路制造行业发展迅速。同样，化学机械研磨作为芯片加工中必不可少的一道工艺也面临着越来越高的挑战。在化学机械研磨工艺中，将半导体晶片放置于研磨头上，并使晶片表面朝下与研磨垫接触，在研磨垫和半导体晶片之间通入研磨液，通过晶片表面和研磨垫之间的相对运动使得晶片表面平坦化。研磨液是化学机械研磨工艺中一项关键的消耗品，在芯片化学机械研磨过程中起着重要的作用。为了满足化学机械研磨工艺中不同制程的需要，越来越多的研磨液被开发并投入使用，因此出现了各式各样的研磨液供应装置。研磨液供应装置一般都包括机架、以及安装在该机架上的用于存储研磨液的储液桶。然而，传统的研磨液供应装置存在以下问题:储液桶内的研磨液在长时间放置后，容易产生固态沉淀，当其使用时，这些固态沉淀会连同液体一起被供应到使用端，造成被研磨的晶片表面划伤或者在其表面上附着颗粒物，导致产品的良率下降。
技术实现思路
本技术目的是:针对上述问题，提供一种不易产生沉淀的研磨液供应装置。本技术的技术方案是:所述的研磨液供应装置，包括机架，该机架上装有用于储存研磨液的储液桶，该储液桶上连有至少一根与储液桶的内腔相连通的供液管，所述供液管上设有沿淹磨液流向依次布置的泵和供液阀，还包括回液管，该回液管的一端与所述泵和所述供液阀之间的供液管管段相连通，另一端与所述储液桶的内腔相连通。作为优选，所述机架上还装有用于搅拌储液桶内的研磨液的搅拌器。作为优选，所述搅拌器中设有提供动力的马达，该马达为无刷马达。作为优选，所述储液桶的底部装有排液管，且排液管上设有排液阀。作为优选，所述供液管连在所述储液桶的底部。作为优选，所述机架的底部装有万向轮。作为优选，所述机架上装有推手。本技术的优点是:1、当本研磨液供应装置不使用时，可以关闭供液阀，开启泵，储液桶内的研磨液经供液管输送至回液管，再由回液管回流至储液桶内。这样就可以是储液桶内的研磨液始终处于运动状态，从而有效地避免了储液桶内的研磨液引长期放置后容易产生沉淀的现象。2、机架上装有用于搅拌储液桶内的研磨液的搅拌器7，可加剧储液桶内研磨液的运动，同时保证了研磨液的均匀程度。3、搅拌器采用的马达为无刷马达，这种马达运转时不会产生粉尘污染桶内的研磨液。4、供液管壳设置多根，可向多个使用端供应研磨液。5、单一储液桶设计，清洗方便，且可避免不同性质研磨液或化学品混合之风险。6、机架上装有万向轮和推手，便于设备的移动。7、储液桶采用封闭式结构设计，可保持水气并避免空气进入桶身内，降低研磨液产生结晶物。以下结合附图及实施例对本技术作进一步描述:附图说明图1为本技术研磨液供应装置的结构示意图；其中:1-机架，2-储液桶，3-供液管，4-泵，5-供液阀，6-回液管，7-搅拌器，8-排液管，9-排液阀，10-万向轮，11-推手。具体实施方式图1出示了本技术研磨液供应装置的一个具体实施例，它包括机架1，该机架I上装有用于储存研磨液的储液桶2。储液桶2上连有至少一根(本例为一根)与储液桶的内腔相连通的供液管3。本例中，供液管3连在储液桶2的底部。所述供液管3上设有沿淹磨液流向依次布置的泵4和供液阀5 (即泵4位于供液阀5的上游位置)。本研磨液供应装置还包括一根回液管6，该回液管6的一端与所述泵4和所述供液阀5之间的供液管管段相连通，另一端与所述储液桶2的内腔相连通。本研磨液供应装置在使用时，预先在储液桶2内装入准备好的研磨液，开启供液管3上的泵4和供液阀5，在泵4的动力作用下，储液桶2内的研磨液沿着供液管3输出至使用端。当本研磨液供应装置不使用时，可以关闭供液阀5，开启泵4，储液桶2内的研磨液在泵4的作用下经供液管3输送至回液管4，再由回液管4回流至储液桶2内，研磨液流向参照图中箭头所示。这样就可以是储液桶2内的研磨液始终处于运动状态，从而有效地避免了储液桶内的研磨液引长期放置后容易产生沉淀的现象。为了使储液桶2内研磨液运动更加激烈，同时也为了保证研磨液的均匀程度，本例还在机架I上装有用于搅拌储液桶2内的研磨液的搅拌器7。搅拌器7中设有提供动力的马达，为了防止马达运转时产生粉尘污染桶内的研磨液，本例中搅拌器7采用的马达为无刷马达(高扭矩数字无刷马达)。此外，为了便于将储液桶2内的不需要使用的研磨液排出，同时也为了方便储液桶2的清洗，本例在储液桶2的底部安装了排液管8，且排液管8上设有排液阀9。另外，为了方便本研磨液供应装置的移动，本例在机架I的底部安装了多个万向轮10，在机架I侧部安装了便于推动装置移动的推手11。当然，上述实施例只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让人们能够了解本技术的内容并据以实施，并不能以此限制本技术的保护范围。凡根据本技术主要技术方案的精神实质所做的等效变换或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种研磨液供应装置，包括机架(1)，该机架(I)上装有用于储存研磨液的储液桶(2)，该储液桶(2)上连有至少一根与储液桶的内腔相连通的供液管(3)，所述供液管(3)上设有沿淹磨液流向依次布置的泵(4)和供液阀(5)，其特征在于:还包括回液管(6)，该回液管(6)的一端与所述泵(4)和所述供液阀(5)之间的供液管管段相连通，另一端与所述储液桶(2)的内腔相连通。2.根据权利要求1所述的研磨液供应装置，其特征在于:所述机架(I)上还装有用于搅拌储液桶(2)内的研磨液的搅拌器(7)。3.根据权利要求2所述的研磨液供应装置，其特征在于:所述搅拌器(7)中设有提供动力的马达，该马达为无刷马达。4.根据权利要求1或2或3所述的研磨液供应装置，其特征在于:所述储液桶(2)的底部装有排液管(8),且排液管(8)上设有排液阀(9)。5.根据权利要求1或2或3所述的研磨液供应装置，其特征在于:所述供液管(3)连在所述储液桶(2)的底部。6.根据权利要求1或2或3所述的研磨液供应装置，其特征在于:所述机架(I)的底部装有万向轮(10)。7.根据权利要求6所述的研磨液供应装置，其特征在于:所述机架(I)上装有推手(11)。8.根据权利要求1或2或3所述的研磨液供应装置，其特征在于:所述储液桶(2)为封闭式结构。专利摘要本技术公开了一种研磨液供应装置，它包括机架，该机架上装有用于储存研磨液的储液桶，该储液桶上连有至少一根与储液桶的内腔相连通的供液管，所述供液管上设有沿研磨液流向依次布置的泵和供液阀，还包括回液管，该回液管的一端与所述泵和所述供液阀之间的供液管管段相连通，另一端与所述储液桶的内腔相连通。本技术的研磨液供应装置不易在储液桶内产生沉淀。文档编号B24B57/02GK203045540SQ20122067890公开日2013年7月10日 申请日期2012年12月10日 优先权日2012年12月10日专利技术者李宗龙, 谢明发, 郭庆邦, 赖建宏, 高宏志 申请人:苏州可米特机械科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种研磨液供应装置，包括机架（1），该机架（1）上装有用于储存研磨液的储液桶（2），该储液桶（2）上连有至少一根与储液桶的内腔相连通的供液管（3），所述供液管（3）上设有沿淹磨液流向依次布置的泵（4）和供液阀（5），其特征在于：还包括回液管（6），该回液管（6）的一端与所述泵（4）和所述供液阀（5）之间的供液管管段相连通，另一端与所述储液桶（2）的内腔相连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李宗龙，谢明发，郭庆邦，赖建宏，高宏志，
申请(专利权)人：苏州可米特机械科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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