【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种平面热电堆制作方法，特别是。
技术介绍
通常情况下，热电堆的制造方法大多采用焊接工艺或者镀膜技术，焊接工艺具有工艺简单的优点，但是与镀膜技术相比，在热电堆的组合数量、排列的均匀性、导线与绝缘层贴敷的紧密性等方面 具有很大的差距。镀膜工艺上有两种可选方案，离子溅射或者光刻镀膜。离子溅射工艺的优点是利用一套模板可以重复镀膜，其缺点是较难装夹，且工艺水平较低，向小型化发展的余地不大。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供，解决平面热电堆难以加工、热电偶放置均匀性差、热电偶数目较少、测温灵敏度难以保证的问题。的具体步骤为: 第一步制作金属光刻掩模版 进行镍金属和钼金属光刻所需掩模版的制作，将镍金属和钼金属图形在铬版上用电子束曝光在1250ΙΓ1800Κ工作温度下，逐个将镍金属和钼金属图形元素曝光，制作1:fl:10放大倍率的掩模图形。第二步加工干法刻蚀和焊盘光刻的掩模版 制作干法刻蚀和焊盘加厚所需掩模版，将干法刻蚀和焊盘图形在铬版上利用电子束曝光技术在1250ΙΓ1800Κ工作温度逐个地将焊盘的图形元素曝光，制作1:1 1:10放大倍率的掩模图形。第三...
【技术保护点】
一种用于量热计的平面热电堆制作方法，其特征在于该方法的具体步骤为：第一步??制作金属光刻掩模版进行镍金属（9）和铂金属（10）光刻所需掩模版的制作，将镍金属（9）和铂金属（10）图形在铬版上用电子束曝光在1250K~1800K工作温度下，逐个将镍金属（9）和铂金属（10）图形元素曝光，制作1：1~1：10放大倍率的掩模图形；第二步??加工干法刻蚀和焊盘光刻的掩模版制作干法刻蚀和焊盘（7）加厚所需掩模版，将干法刻蚀和焊盘（7）图形在铬版上利用电子束曝光技术在1250K~1800K工作温度逐个地将焊盘（7）的图形元素曝光，制作1：1~1：10放大倍率的掩模图形；第三步??生长绝...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：何巍，张伟伟，程春悦，
申请(专利权)人：中国航天科工集团第二研究院二〇三所，
类型：发明
国别省市：
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