一种适合于X荧光多元素分析仪的密封膜片渗漏测量装置及方法制造方法及图纸

技术编号:8799793 阅读:232 留言:0更新日期:2013-06-13 04:51
本发明专利技术涉及一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置及方法。该装置采用双层膜片对探测腔体内部空间进行密封保护,并在内膜片与外膜片之间用安装有用绝缘圈间隔开的二块铜板,利用二极管的反向截止和水的导电性,来判断外铜板与内铜板之间是否因接触到矿浆而形成导通,进而判断外膜片4的密封是否发生渗漏。一旦检测到外膜片渗漏或线路连接故障,可通过继电器发出报警信号,使仪器启动保护措施。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种针对密封膜片渗漏测量的装置及方法,具体说是涉及一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置及方法。
技术介绍
我国冶金、有色金属、矿山、建材等众多领域的生产过程中,原料中各种元素的配比对产品质量起着关键的作用。目前基于专利技术“在流检测多元素分析装置及方法”(专利号:200710010105.5)的在流X荧光多元素分析仪器已经很好的实现了对料流的各组成元素含量的实时检测,摆脱了人工取样后再进行化学分析的烦琐程序,大大提高了生产效率。仪器在对矿浆进行测量时,需要将探测器及射线源浸入到矿浆内,为了保护探测器,目前采取的办法是将探测器和射线源安装在探测腔体中,然后在探测腔体上开有用耐磨耐腐蚀的高分子薄膜密封的窗口,便于对矿浆的分析检测。但是由于长时间的使用以及矿浆中的杂质复杂,高分子薄膜还是会被磨漏、划破,甚至由于不同材质的热膨胀系数不同导致热胀冷缩后密封效果变差产生渗漏。并且仪器在工作时是将探测腔体的头部浸入到矿浆的液面以下的,靠仪表的维护人员根本无法及时观测到高分子薄膜是否已经发生渗漏,导致即便膜片开始仅是微量的渗漏但也无法得到及时有效处理,最终使得大量的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置,其特征是:腔体壳3及前端盖1由耐磨、耐腐蚀、质地较硬、绝缘的高分子材料制成,在腔体壳3的前端开有窗口,并制有圆形凹台,腔体壳3的凹台底部开有一个环形凹槽,凹槽中装有内密封O型圈13,在腔体壳3的凹台底部开有四个螺孔,在凹台中由内向外依次置有内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4,在腔体壳3及外膜片4的外侧压有前端盖1;在内铜板7的中间制有圆洞,在内铜板7的边缘制有四个螺孔,其中靠近内铜板7圆心的二个螺孔的内径比腔体壳1凹台底部螺孔的内径大4毫米,另外二个螺孔的内径与腔体壳1凹台底部螺孔的内径相同;在外铜板5的中间制有圆洞,在外铜...

【技术特征摘要】
1.一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置,其特征是: 腔体壳3及前端盖I由耐磨、耐腐蚀、质地较硬、绝缘的高分子材料制成,在腔体壳3的前端开有窗口,并制有圆形凹台,腔体壳3的凹台底部开有一个环形凹槽,凹槽中装有内密封O型圈13,在腔体壳3的凹台底部开有四个螺孔,在凹台中由内向外依次置有内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4,在腔体壳3及外膜片4的外侧压有前端盖I ; 在内铜板7的中间制有圆洞,在内铜板7的边缘制有四个螺孔,其中靠近内铜板7圆心的二个螺孔的内径比腔体壳I凹台底部螺孔的内径大4毫米,另外二个螺孔的内径与腔体壳I凹台底部螺孔的内径相同; 在外铜板5的中间制有圆洞,在外铜板5的边缘制有四个螺孔,其中靠近外铜板5圆心的二个螺孔的内径与腔体壳I凹台底部螺孔的内径相同,另外二个螺孔的内径比腔体壳I凹台底部螺孔的内径大4毫米; 在前端盖I的朝向腔体壳I 一面制有二道环形凹槽,凹槽中分别装有前密封O型圈2和外密封O型圈12 ; 通过金属材质的螺栓A91、螺栓B92、螺栓C93、螺栓D94将腔体壳3、内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4、前端盖I固定在一起,相互压紧并保证螺栓A91与内铜板7导通但不与外铜板5接触,螺栓B92与外铜板5导通但不与内铜板7接触,螺栓C93与外铜板5导通但...

【专利技术属性】
技术研发人员:张伟佟超于海明龚亚林尹兆余陈树军周洪军金鑫李剑锋王政梁宏伟夏远恒曲宝剑温晓光刘家勇毕然
申请(专利权)人:丹东东方测控技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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