本发明专利技术涉及一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置及方法。该装置采用双层膜片对探测腔体内部空间进行密封保护，并在内膜片与外膜片之间用安装有用绝缘圈间隔开的二块铜板，利用二极管的反向截止和水的导电性，来判断外铜板与内铜板之间是否因接触到矿浆而形成导通，进而判断外膜片4的密封是否发生渗漏。一旦检测到外膜片渗漏或线路连接故障，可通过继电器发出报警信号，使仪器启动保护措施。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种针对密封膜片渗漏测量的装置及方法，具体说是涉及一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置及方法。
技术介绍
我国冶金、有色金属、矿山、建材等众多领域的生产过程中，原料中各种元素的配比对产品质量起着关键的作用。目前基于专利技术“在流检测多元素分析装置及方法”(专利号:200710010105.5)的在流X荧光多元素分析仪器已经很好的实现了对料流的各组成元素含量的实时检测，摆脱了人工取样后再进行化学分析的烦琐程序，大大提高了生产效率。仪器在对矿浆进行测量时，需要将探测器及射线源浸入到矿浆内，为了保护探测器，目前采取的办法是将探测器和射线源安装在探测腔体中，然后在探测腔体上开有用耐磨耐腐蚀的高分子薄膜密封的窗口，便于对矿浆的分析检测。但是由于长时间的使用以及矿浆中的杂质复杂，高分子薄膜还是会被磨漏、划破，甚至由于不同材质的热膨胀系数不同导致热胀冷缩后密封效果变差产生渗漏。并且仪器在工作时是将探测腔体的头部浸入到矿浆的液面以下的，靠仪表的维护人员根本无法及时观测到高分子薄膜是否已经发生渗漏，导致即便膜片开始仅是微量的渗漏但也无法得到及时有效处理，最终使得大量的矿浆进入到探测腔体内部，对探测器带来损伤。
技术实现思路
本专利技术针对现有在流X荧光多元素分析仪器在应用中所存在的缺陷，提出一种针对工业在流X荧光多元素分析仪器在应用中能够对密封膜片进行渗漏测量的装置及方法。本专利技术所采用的技术方案是: 如图1所示，腔体壳3及前端盖I由耐磨、耐腐蚀、质地较硬、绝缘的高分子材料制成，在腔体壳3的前端开有窗口，并制有圆形凹台，腔体壳3的凹台底部开有一个环形凹槽，凹槽中装有内密封O型圈13，在腔体壳3的凹台底部开有四个螺孔，在凹台中由内向外依次置有内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4，在腔体壳3及外膜片4的外侧压有前端盖I ； 在内铜板7的中间制有圆洞，在内铜板7的边缘制有四个螺孔，其中靠近内铜板7圆心的二个螺孔的内径比腔体壳I凹台底部螺孔的内径大4毫米，另外二个螺孔的内径与腔体壳I凹台底部螺孔的内径相同； 在外铜板5的中间制有圆洞，在外铜板5的边缘制有四个螺孔，其中靠近外铜板5圆心的二个螺孔的内径与腔体壳I凹台底部螺孔的内径相同，另外二个螺孔的内径比腔体壳I凹台底部螺孔的内径大4毫米； 在前端盖I的朝向腔体壳I 一面制有二道环形凹槽，凹槽中分别装有前密封O型圈2和外密封O型圈12 ； 通过金属材质的螺栓A91、螺栓B92、螺栓C93、螺栓D94将腔体壳3、内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4、前端盖I固定在一起，相互压紧并保证螺栓A91与内铜板7导通但不与外铜板5接触，螺栓B92与外铜板5导通但不与内铜板7接触，螺栓C93与外铜板5导通但不与内铜板7接触，螺栓D94与内铜板7导通但不与外铜板5接触； 螺栓A91接有接线柱A111，在接线柱Alll与腔体壳3之间压有螺栓胶垫AlOl ； 螺栓B92接有接线柱BI 12，在接线柱BI 12与腔体壳3之间压有螺栓胶垫B102 ； 螺栓C93接有接线柱Cl 13，在接线柱Cl 13与腔体壳3之间压有螺栓胶垫C103 ； 螺栓D94接有接线柱Dl 14，在接线柱Dl 14与腔体壳3之间压有螺栓胶垫D104 ；接线柱A111、接线柱B112、接线柱C113、接线柱D114分别通过导线与检测电路18联接；在腔体壳3的后端制有带螺纹的凸台，通过螺纹与后端盖15连接，在腔体壳3与后端盖15之间通过后密封胶垫14进行密封； 检测电路18的构成包括单片机系统、状态检测电路、报警电路、电极电路。检测电路18的电路原理图如图8所示:其中单片机系统主要由STC12C2052组成，状态检测电路主要由光耦继电器和比较器组成，报警电路主要由继电器组成，电极电路主要由二个串联的二极管IN4148组成。单片机的I/O 口 Pl.3、Pl.2为检测控制信号的输出端，分别与状态检测电路的正向控制端(D+KG0UT)和反向控制端(D-KGOUT)相连；单片机的Pl.1为状态检测信号的输入端，与比较器输出(WIN_IN)连接；单片机的Pl.0为报警电路控制信号的输出端，与报警电路的输入端(BEEP)连接；电极电路的正极1、正极2、负极1、负极2分别与接线柱C113、接线柱B112、接线柱D114、接线柱Alll连接。本专利技术的原理是利用二极管的反向截止和水的导电性，来判断外铜板5与内铜板7之间是否因接触到矿浆而形成导通，进而判断外膜片4的密封是否发生渗漏。本专利技术的具体检测及应用方法是: 当检测系统开始工作时，单片机系统会控制状态检测电路对外铜板5与内铜板7之间的串联二极管施加电压。正常情况下，当施加正向电压时，二极管处于正向导通状态，外铜板5与内铜板7之间电势差较小；而当施加反向电压时，二极管处于反向截止状态，外铜板5与内铜板7之间电势差较大。而当施加正向电压时，若外铜板5与内铜板7之间电势差较大，则说明电路处于开路状态，即线路没有连接好；而一旦当外膜片4发生渗漏后，外铜板5与内铜板7之间由于有水的导电性起作用，则即使在施加反向电压时，外铜板5与内铜板7之间的电势差也较小。单片机系统根据施加的是正向还是反向电压，以及外铜板5与内铜板7之间的电势差高低，即可判断出电路是否正常工作，以及外铜板5与内铜板7之间是否有水导通。单片机系统根据判断结果，控制继电器的断开或吸合，启动多元素分析仪的自动保护。本专利技术的有益效果是:该装置及方法不仅能够对外膜片是否发生渗漏进行检测，而且还能对线路的连接状态进行检测，杜绝了若外膜片发生渗漏但因为线路连接故障而无法报警的情况发生。另外在外膜片发生渗漏后，还有内膜片可以继续保护腔体内的探测器、射线源等精密贵重设施。而在腔体后端设有可旋下的后端盖，便于对腔体前部设施的装配、调试等操作。附图说明图1是本专利技术的装置结构示意图 图2是本专利技术中的前端盖I的结构示意图 图3是本专利技术中的外铜板5的结构示意图 图4是本专利技术中的内铜板7的结构示意图 图5是本专利技术中的绝缘圈6的结构示意图 图6是本专利技术中的外膜片4的结构示意图 图7是本专利技术中的内膜片8的结构示意图 图8是本专利技术中的的检测电路18电路原理图 图9是本专利技术的单片机判断程序流程图 图中:1前端盖，2前密封O型圈，3腔体壳，4外膜片，5外铜板，6绝缘圈，7内铜板，8内膜片，12外密封O型圈，13内密封O型圈，14后密封胶垫，15后端盖，16 X射线源，17探测器，18检测电路，91螺栓A，92螺栓B，93螺栓C，94螺栓D，101螺栓胶垫A，102螺栓胶垫B，103螺栓胶垫C，104螺栓胶垫D，111接线柱A，112接线柱B，113接线柱C，114接线柱D。具体实施例方式结合附图详细说明本专利技术的装置结构和使用方法。如图1所示，腔体壳3由耐磨、耐腐蚀、质地较硬、绝缘的高分子材料制成，在腔体壳3的前端开有窗口，并制有圆形凹台，腔体壳3的凹台底部开有一个环形凹槽，凹槽中装有内密封O型圈13，在腔体壳3的凹台底部开有四个M6的螺孔，在凹台中由内向外依次置有内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4，内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4的总厚度与凹台的深度相本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置，其特征是：腔体壳3及前端盖1由耐磨、耐腐蚀、质地较硬、绝缘的高分子材料制成，在腔体壳3的前端开有窗口，并制有圆形凹台，腔体壳3的凹台底部开有一个环形凹槽，凹槽中装有内密封O型圈13，在腔体壳3的凹台底部开有四个螺孔，在凹台中由内向外依次置有内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4，在腔体壳3及外膜片4的外侧压有前端盖1；在内铜板7的中间制有圆洞，在内铜板7的边缘制有四个螺孔，其中靠近内铜板7圆心的二个螺孔的内径比腔体壳1凹台底部螺孔的内径大4毫米，另外二个螺孔的内径与腔体壳1凹台底部螺孔的内径相同；在外铜板5的中间制有圆洞，在外铜板5的边缘制有四个螺孔，其中靠近外铜板5圆心的二个螺孔的内径与腔体壳1凹台底部螺孔的内径相同，另外二个螺孔的内径比腔体壳1凹台底部螺孔的内径大4毫米；在前端盖1的朝向腔体壳1一面制有二道环形凹槽，凹槽中分别装有前密封O型圈2和外密封O型圈12；通过金属材质的螺栓A91、螺栓B92、螺栓C93、螺栓D94将腔体壳3、内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4、前端盖1固定在一起，相互压紧并保证螺栓A91与内铜板7导通但不与外铜板5接触，螺栓B92与外铜板5导通但不与内铜板7接触，螺栓C93与外铜板5导通但不与内铜板7接触，螺栓D94与内铜板7导通但不与外铜板5接触；螺栓A91接有接线柱A111，在接线柱A111与腔体壳3之间压有螺栓胶垫A101；螺栓B92接有接线柱B112，在接线柱B112与腔体壳3之间压有螺栓胶垫B102；螺栓C93接有接线柱C113，在接线柱C113与腔体壳3之间压有螺栓胶垫C103；螺栓D94接有接线柱D114，在接线柱D114与腔体壳3之间压有螺栓胶垫D104；接线柱A111、接线柱B112、接线柱C113、接线柱D114分别通过导线与检测电路18联接；在腔体壳3的后端制有带螺纹的凸台，通过螺纹与后端盖15连接，在腔体壳3与后端盖15之间通过后密封胶垫14进行密封。...
【技术特征摘要】
1.一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置，其特征是: 腔体壳3及前端盖I由耐磨、耐腐蚀、质地较硬、绝缘的高分子材料制成，在腔体壳3的前端开有窗口，并制有圆形凹台，腔体壳3的凹台底部开有一个环形凹槽，凹槽中装有内密封O型圈13，在腔体壳3的凹台底部开有四个螺孔，在凹台中由内向外依次置有内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4，在腔体壳3及外膜片4的外侧压有前端盖I ; 在内铜板7的中间制有圆洞，在内铜板7的边缘制有四个螺孔，其中靠近内铜板7圆心的二个螺孔的内径比腔体壳I凹台底部螺孔的内径大4毫米，另外二个螺孔的内径与腔体壳I凹台底部螺孔的内径相同； 在外铜板5的中间制有圆洞，在外铜板5的边缘制有四个螺孔，其中靠近外铜板5圆心的二个螺孔的内径与腔体壳I凹台底部螺孔的内径相同，另外二个螺孔的内径比腔体壳I凹台底部螺孔的内径大4毫米； 在前端盖I的朝向腔体壳I 一面制有二道环形凹槽，凹槽中分别装有前密封O型圈2和外密封O型圈12 ； 通过金属材质的螺栓A91、螺栓B92、螺栓C93、螺栓D94将腔体壳3、内膜片8、内铜板7、绝缘圈6、外铜板5、外膜片4、前端盖I固定在一起，相互压紧并保证螺栓A91与内铜板7导通但不与外铜板5接触，螺栓B92与外铜板5导通但不与内铜板7接触，螺栓C93与外铜板5导通但...
【专利技术属性】
技术研发人员：张伟，佟超，于海明，龚亚林，尹兆余，陈树军，周洪军，金鑫，李剑锋，王政，梁宏伟，夏远恒，曲宝剑，温晓光，刘家勇，毕然，
申请(专利权)人：丹东东方测控技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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