离化装置及应用离化装置的镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:8743375 阅读:133 留言:0更新日期:2013-05-29 20:42
一种离化装置,用于蒸发镀膜装置中,用以对蒸料原子或分子进行离化,该离化装置包括主体及装设于主体上的热电子发射系统和磁场发生装置,该主体呈管状结构,内部形成腔体;该热电子发射系统包括设置于腔体内或腔体边缘的电阻丝,该电阻丝与主体之间设置有直流电压;该磁场发生装置包括设置于主体的外壁上的若干永磁体。本发明专利技术离化装置应用于蒸发镀膜装置中,其可对蒸料原子或蒸料分子进行离化,进而提高蒸料的能量和沉积速率,使用该离化装置所制得的膜层与基材结合力较强,且膜层的质量高。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种离化装置,用于蒸发镀膜装置中,用以对蒸料原子或分子进行离化,其特征在于:该离化装置包括主体及装设于主体上的热电子发射系统和磁场发生装置,该主体呈管状结构,该主体包括一侧壁,侧壁围成腔体;该热电子发射系统包括设置于腔体内或腔体边缘的电阻丝,该电阻丝与主体间设置有直流电压;该磁场发生装置包括设置于侧壁外表面的若干永磁体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄登聪彭立全
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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