一种双纹络新型合成革制造技术

本实用新型专利技术公开一种双纹络新型合成革，其特征在于：包括半品底基层，该半品底基层上表面至下而上依次设有底料层、珠光效果第一面料层、透明底料层及透明第二面料层。在现有的单一的纹路基础上，覆盖一层另一种纹路透明层，使得两种新纹路重叠出来一种新纹路，保留了原有纹路的一定特征，易被市场接受，不需要新纹路的离型纸，且不同的纹路组合可取得不通的纹路组合效果，使得产品的纹路种类更加丰富，大大的减少了开发成本，具有巨大的市场前景。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及合成革，尤其是指一种双纹络新型合成革。
技术介绍
合成革纹络有种类繁多，大大丰富了人们生活世界，但依然无法满足人们的不同追求，纹路的单一，往往不能吸引开拓市场，若是额外的去开发新的纹路，则因新纹路的开发而需耗费巨大的开发成本，因此有待我们去实现低开发成本的新纹络开发。
技术实现思路
本技术针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种制作开发成本较低的双纹络新型合成革。为实现上述目的，本技术采用如下之技术方案:一种双纹络新型合成革，其特征在于:包括半品底基层，该半品底基层上表面至下而上依次设有底料层、珠光效果第一面料层、透明底料层及透明第二面料层。具体工艺流程是:在第一离型纸纹路上以(110-140) g/ Itl2涂一层含有珠光粉的面料，经70 — 110°C烘干，冷却l_2min，再涂上底料，贴合半成品底基，贴合的压力在3_6kgf/cm2，在100-120°C烘干完全，剥离制得单纹路I3U革成品。在另一种第二离型纸纹路上以(110-140) g/ m2涂一层透明层面料，经70 — 110°C烘干，冷却l-2min，再涂上透明层底料，贴合上述制得的单纹路PU革成品为底基，贴合的压力在3-6kgf/cm2在100-120°C烘干完全，剥离制得双纹路I3U革成品。本技术采用上述技术方案后，其有益效果在于:在现有的单一的纹路基础上，覆盖一层另一种纹路透明层，使得两种新纹路重叠出来一种新纹路，保留了原有纹路的一定特征，易被市场接受，不需要新纹路的离型纸，大大的减少了开发成本，具有巨大的市场前景；而且双纹路的重叠，从不同角度去看，有很强的水晶效果和立体效果，且不同的纹路组合可取得不通的纹路组合效果，使得产品的种类更加丰富，这样不仅省去了开发新纹路的高昂成本，操作简单容易被已成熟的市场所接受。附图说明图1是本技术之实施例的截面图。具体实施方式以下结合附图与具体实施例来对本技术进行详细说明:如图1所示为本技术的一种双纹络新型合成革，其特征在于:包括半品底基层1，该半品底基层I上表面至下而上依次设有底料层2、珠光效果第一面料层3、底料层4及透明第二面料层5。具体工艺流程是:在离型纸上以(110-140) g/IIf涂一层含有珠光粉的面料，经70 — 110°C烘干，冷却l_2min，再涂上底料，贴合半成品底基，贴合的压力在3-6kgf/cm2，在100-120°C烘干完全，剥离制得单纹路I3U革成品。在另一种的离型纸上以(110-140)g/ m2涂一层透明面料，经70 — 110°C烘干，冷却l-2min,再涂上底料，贴合上述PU革成品为底基，贴合的压力在3-6kgf/cm2在100_120°C烘干完全，剥离制得双纹路PU革成品。本技术的重点在于，在现有的单一的纹路基础上，加上一种新的纹路，即双纹路是在两种新纹路的重叠出来的，相当于生产一种新纹路，保留了原有纹路的一定特征，易被市场接受，不需要新纹路的离型纸，大大的减少了开发成本，具有巨大的市场前景；而且双纹路的重叠，从不同角度去看，有很强的编织效果和立体效果，这样不仅省去了开发新纹路的高昂成本，操作简单容易被已成熟的市场所接受。以上所述，仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术的技术范围作任何限制，故凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本技术技术方案的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双纹络新型合成革，其特征在于：包括半品底基层，该半品底基层上表面自下而上依次设有底料层、珠光效果第一面料层、透明底料层及透明第二面料层。

【技术特征摘要】
1.一种双纹络新型合成革，其特征在于:包括半品底基层，该半品底基层上表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：林天送，顾宇霆，朱国勤，
申请(专利权)人：安安中国有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35