【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种对位补偿装置及曝光装置。
技术介绍
液晶显示面板制造过程中，各薄膜层的实现通常都需要经过沉积、曝光、显影及光刻工艺等形成特定的图形，光刻工艺主要是通过掩膜板形成光刻胶图形，为了实现准确对位，需要进行对位控制，但是在实际的生产中，经常发生对偏的现象，尤其是当面板的分辨率高的时候，对应的设备精度常不能很好的满足需求。现有的利用掩膜板形成光刻胶图形过程中，往往采用如图1所示的曝光装置进行对位控制，高压汞灯发出的紫外光形成均匀的弧形光源后射到掩膜板I上，经过补偿玻璃板2进行对位补偿，之后经过光学变换子系统3可到达光刻胶并使相应区域的光刻胶曝光，后续经过显影等工序形成对应的光刻胶图形。上述利用补偿玻璃板2进行对位补偿时，补偿玻璃板2的周边安装一定数量的马达，通过马达的控制，对补偿玻璃板周边的位置进行形变补偿，如图1中宽度为X的图形需要补偿为宽度(1+α)Χ，只需要通过周边马达的控制，将补偿玻璃板2进行适当的扭曲，使得光通过补偿玻璃板2时发生折射，路径上偏离直线，进行一定的补偿。然而进行光刻工艺过程中的光刻掩膜板I尺寸比较大，当掩...
【技术保护点】
一种对位补偿装置，其特征在于，该装置包括对位补偿部件和光束发生装置，其中，所述光束发生装置设置于使其发射的光线直接照射所述对位补偿部件设定部位的位置；所述对位补偿部件包括补偿玻璃板和具有光致变形效应的微补偿层，所述微补偿层具有光致变形效应，其被所述光束发生装置发出的光线照射的部位可发生形变，并带动所述补偿玻璃板发生形变。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：曲连杰，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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