【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及向基板涂敷药液的基板处理装置，更详细地，涉及向基板喷出多种的药液的喷嘴单元和具备该喷嘴单元的基板处理装置。
技术介绍
为了制造半导体元件或液晶显示器，实施如下多种的工序:向基板上供应药液的光刻、刻蚀、离子注入蒸镀和洗净。这样的工序中，光刻工序使基板上形成所需的图案。光刻胶工序依次实行下述工序:涂敷工序，向基板上涂敷如光刻胶这样的药液；曝光工序，在涂敷的感光膜上形成特定的图案；以及显影工序，在曝光的感光膜上去除不必要的区域。其中，一般而言,基板向一个方向移动，由固定的喷嘴被供应药液。在这之中，在基板会被移动的涂敷工序中，支承部件向基板的底面喷射气体，使该基板在其漂浮于空中的状态下移动。但是，基板随气体的振荡而产生振动，由于气体的温度在基板的区域之间产生温差。在先技术文献专利文献1:日本国特许公开第2010-0221186号公报。
技术实现思路
本专利技术用于提供一种节省光刻胶的消耗量的。另外，本专利技术用于提供一种设置成在基板上均匀地涂敷光刻胶的。基于本专利技术的实施方式的基板处理装置，包括:板，支承基板；喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液；驱动...
【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，包括：板，支承基板；喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液；驱动单元，使所述基板或所述喷嘴单元移动，以使置于所述板上的基板与所述喷嘴单元之间的相对位置改变；所述喷嘴单元包括：第一喷出部件，沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液；第二喷出部件，沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向，该第二喷出部件向所述基板喷出第二药液。
【技术特征摘要】
2011.10.31 KR 10-2011-0111869;2011.12.05 KR 10-201.一种基板处理装置，其特征在于，包括: 板，支承基板； 喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液； 驱动单元，使所述基板或所述喷嘴单元移动，以使置于所述板上的基板与所述喷嘴单元之间的相对位置改变； 所述喷嘴单元包括: 第一喷出部件，沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液； 第二喷出部件，沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向，该第二喷出部件向所述基板喷出第二药液。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述喷嘴单元还包括:主体，沿所述第一方向形成该主体的横方向； 所述第一喷出部件被提供作为形成于所述主体内的第一流道； 第二喷出部件被提供作为形成于所述主体内的第二流道。3.根据权利要求2所述 的基板处理装置，其特征在于， 在所述主体中还形成吸入从所述基板产生的烟气的排气流道。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于， 所述排气流道形成于所述第一流道与所述第二流道之间。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一流道和第二流道以下部向所述排气流道一侧倾斜的方式形成。6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，还包括: 抽引部件，向从所述第一喷出部件喷出的所述第一药液提供吸入压力。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于， 所述抽引部件以在所述主体中包含其流道的方式形成并提供，所述第一流道位于所述流道和所述第二流道之间。8.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于， 所述第一流道和所述第二流道沿与所述第一方向相垂直的第二方向分离。9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述驱动单元包括:支承台，所述支承台与所述喷嘴单元结合； 垂直框架，设置于所述支承台的两侧来支承所述支承台； 导轨，以所述垂直框架能够向与所述第一方向垂直的第二方向移动的方式支承该垂直框架； 所述基板处理装置还包括: 结合部件，所述结合部件使所述喷嘴单元以可拆装的方式与所述支承台结合。10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，还包括: 喷嘴单元待机部，从所述支承台分离的喷嘴单元置于该喷嘴单元待机部，所述喷嘴单元待机部配置于所述喷嘴单元移动的路径上。11.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于， 所述结合部件包括:吸入部，形成于所述支承台的下表面，提供吸入压力。12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于， 所述结合部件还包括:结合部，设置于与所述支承台相接的所述喷嘴单元的外表面，在所述喷嘴单元与所述支承台结合时，所述结合部插入所述吸入部。13.根据权利要...
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