用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔制造技术

本发明专利技术公开一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，该洗涤塔包括：循环洗涤剂箱，循环洗涤剂箱的中部设置有多孔的隔板，隔板下方的循环洗涤剂箱用于收集洗涤剂，隔板上设置有用于增大酸碱性排气与洗涤剂的接触面积的填料；循环泵和循环管路，循环泵通过循环管路与循环洗涤剂箱连接，用于驱动洗涤剂循环流动；以及液位计，液位计设置在循环洗涤剂箱的下部，并通过连接装置与循环洗涤剂箱连接，连接装置上设置有过滤装置。根据本发明专利技术的洗涤塔不但能够有效地防止杂物和填料的破碎物等进入液位计而将其损坏，进而避免由于洗涤塔内液位过低而影响洗涤塔的洗涤效果，还具有结构简单、对半导体厂房的酸碱性排气处理效果优异等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体领域，尤其涉及一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔。
技术介绍
半导体厂房等洁净室的工艺排气系统所排放的气体通常呈酸碱性，如果直接排放到环境中会产生污染，因此，会采用洗涤塔对该酸碱性排气进行处理。酸碱性排气经过洗涤塔时与其内的洗涤剂发生化学反应，以去除所包含的酸碱性成分。洗涤塔内洗涤剂液位的补水和排水等均由液位计联动控制。大部分厂房的洗涤塔均安装在室外，长期运行后，洗涤塔内的洗涤剂中会存在大量杂物。此外，为了增大洗涤塔的处理效率，洗涤塔内通常会设置有填料，填料在长期工作后会发生脆化破碎的现象。上述杂物和填料的破碎物等如果进入液位计并且未及时处理的话，可能会造成液位计浮球卡住，而导致液位计无法正确地反应洗涤塔内洗涤剂的液位。其后果是，如果液位过低而不能及时补水，则会严重影响洗涤塔的洗涤效果，进而对环境造成不利的影响。因此，需要一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔以解决上述问题。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的不足，本专利技术提供了一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，所述洗涤塔包括: 循环洗涤剂箱，所述循环洗涤剂箱的中部设置有多孔的隔板，所述隔板下方的所述循环洗涤剂箱用于收集洗涤剂，所述隔板上设置有用于增大所述酸碱性排气与所述洗涤剂的接触面积的填料； 循环泵和循环管路，所述循环泵通过所述循环管路与所述循环洗涤剂箱连接，用于驱动所述洗涤剂循环流动；以及 液位计，所述液位计设置在所述循环洗涤剂箱的下部，并通过连接装置与所述循环洗涤剂箱连接，所述连接装置上设置有过滤装置。优选地，所述连接装置包括设置在所述液位计的入口管上的第一法兰环、设置在所述循环洗涤剂箱的出口管上的第二法兰环以及用于连接所述第一法兰环和所述第二法兰环的连接件。优选地，所述过滤装置设置在所述第一法兰环和所述第二法兰环之间。优选地，所述过滤装置为过滤网。优选地，所述过滤网是由非金属材料制成的。优选地，所述过滤网是由无纺布编织材料制成的。优选地，所述填料为特拉瑞德环结构的填料。优选地，所述循环管路在所述循环洗涤剂箱内的入口设置在所述洗涤剂循环箱的顶部，且所述循环管路的入口处设置有喷嘴。优选地，所述循环洗涤剂箱的前端和后端分别设置有气体入口和气体出口，以使所述酸碱性排气从所述气体入口进入经由所述填料并从所述气体出口排出。根据本专利技术的用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔不但能够有效地防止杂物和填料的破碎物等进入液位计而将其损坏，进而避免由于洗涤塔内液位过低而影响洗涤塔的洗涤效果，还具有结构简单、对半导体厂房的酸碱性排气处理效果优异等优点。在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。以下结合附图，详细说明本专利技术的优点和特征。附图说明本专利技术的下列附图在此作为本专利技术的一部分用于理解本专利技术。附图中示出了本专利技术的实施例及其描述，用来解释本专利技术的原理。在附图中， 图1是根据本专利技术一个实施方式的用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔的示意以及 图2是图1中区域A的放大视图。具体实施例方式在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本专利技术更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员来说显而易见的是，本专利技术可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本专利技术发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。为了彻底了解本专利技术，将在下列的描述中提出详细的结构。显然，本专利技术的施行并不限定于本领域的技术人员所熟习的特殊细节。本专利技术的较佳实施例详细描述如下，然而除了这些详细描述外，本专利技术还可以具有其他实施方式。图1是根据本专利技术一个实施方式的用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔的示意图。下面将结合图1对根据本专利技术的用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔(以下简称洗涤塔)进行详细描述。如图1所示，洗涤塔100包括循环洗涤剂箱110、循环泵120、循环管路130和液位计140。循环洗涤剂箱110的中部设置有多孔的隔板111，图中所示的隔板111在循环洗涤剂箱110中的位置仅为示范性的，本领域的技术人员可以根据处理效率等需要合理地设置隔板111。隔板111下方的循环洗涤剂箱110用于收集洗涤剂，后文将对该收集作用进行详细描述。隔板111上设置有用于增大酸碱性排气与洗涤剂的接触面积的填料112，隔板111起到对填料112的支撑作用。作为示例，填料112可以为特拉瑞德环结构的填料，以更好地增大酸碱性排气与洗涤剂的接触面积。循环泵120通过循环管路130与循环洗涤剂箱110连接，用于驱动洗涤剂循环流动。图1中所示的箭头方法为洗涤剂的流动方向。作为示例，循环管路130在循环洗涤剂箱110内的入口设置在洗涤剂循环箱110的顶部，且循环管路130的入口处设置有喷嘴131。循环泵120驱动洗涤剂沿循环管路130自下而上流动，并从循环洗涤箱110的顶部进入循环洗涤剂箱110。通过将循环管路130的入口设置在循环洗涤剂箱110的顶部且在入口处设置喷嘴130可以使洗涤剂均匀地通过填料112，以使酸碱性排气经过填料112时能与洗涤剂均匀地、充分地反应，进而提高对酸碱性排气的处理效果。作为示例，循环洗涤剂箱110的前端和后端分别设置有气体入口(未示出)和气体出口(未示出)，以使酸碱性排气从气体入口进入经由填料112并从气体出口排出。图1中对循环洗涤剂箱110的画法可以理解是循环洗涤剂箱110的沿其横截面的剖视图，气体入口和气体出口分别设置在循环洗涤剂箱110的两端，以使酸碱性气体沿与横截面垂直的轴线方向流动。洗涤剂由循环泵120驱动，沿循环管路130流动，并从循环洗涤剂箱110的顶部由喷嘴131喷出。喷洒出的洗涤剂由于重力作用向下落入填料112中，在填料112中逐渐下落的洗涤剂与沿轴线方向流动的酸碱性气体充分反应后，被收集到隔板111下方的循环洗涤剂箱110内。在循环洗涤剂箱110中被收集的洗涤剂在循环泵120的驱动下沿循环管路130上升并从循环洗涤剂箱110的顶部重新进入到循环洗涤剂箱110中，进行下一循环。液位计140设置在循环洗涤剂箱110的下部，并通过连接装置150与循环洗涤剂箱110连接，用于监测循环洗涤剂箱110中洗涤剂的液位，以便在循环洗涤剂箱110中液位低于标准液位时及时补水，在液位高于标准液位时及时排水。此外，为了防止杂物和填料的破碎物等进入液位计140内，连接装置150上还设置有过滤装置(未示出)。图2是图1中区域A的放大视图。下面将结合图2详细描述根据本专利技术一个实施方式的连接装置150和过滤装置。应当注意的是，图2中与图1相同的部件采用相同的附图标记。如图2所示，连接装置150包括第一法兰环151、第二法兰环152和连接件153。第一法兰环151设置在液位计140的入口管上，第二法兰环152设置在循环洗涤剂箱110的出口管上，第一法兰环151和第二法兰环152通过连接件153来连接。连接件153可以为螺栓或螺钉等。作为示例，过滤装置200设置在第一法兰环151和第二法兰环152之间。过滤装置200可以为本领域常用的液体过滤装置。优选地，过滤装置200可以为过滤网，以降本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，所述洗涤塔包括：?循环洗涤剂箱，所述循环洗涤剂箱的中部设置有多孔的隔板，所述隔板下方的所述循环洗涤剂箱用于收集洗涤剂，所述隔板上设置有用于增大所述酸碱性排气与所述洗涤剂的接触面积的填料；循环泵和循环管路，所述循环泵通过所述循环管路与所述循环洗涤剂箱连接，用于驱动所述洗涤剂循环流动；以及液位计，所述液位计设置在所述循环洗涤剂箱的下部，并通过连接装置与所述循环洗涤剂箱连接，所述连接装置上设置有过滤装置。

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，所述洗涤塔包括: 循环洗涤剂箱，所述循环洗涤剂箱的中部设置有多孔的隔板，所述隔板下方的所述循环洗涤剂箱用于收集洗涤剂，所述隔板上设置有用于增大所述酸碱性排气与所述洗涤剂的接触面积的填料； 循环泵和循环管路，所述循环泵通过所述循环管路与所述循环洗涤剂箱连接，用于驱动所述洗涤剂循环流动；以及 液位计，所述液位计设置在所述循环洗涤剂箱的下部，并通过连接装置与所述循环洗涤剂箱连接，所述连接装置上设置有过滤装置。2.按照权利要求1所述的洗涤塔，其特征在于，所述连接装置包括设置在所述液位计的入口管上的第一法兰环、设置在所述循环洗涤剂箱的出口管上的第二法兰环以及用于连接所述第一法兰环和所述第二法兰环的连接件。3.按照权利要求2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄建春，
申请(专利权)人：无锡华润上华科技有限公司，
类型：发明
国别省市：