光波导和电子设备制造技术

光波导具备：第1包覆层、芯层和设置在芯层上的第2包覆层，所述芯层设置于第1包覆层上且依次具有沿层内方向设置的包覆部、第1芯部、包覆部、第2芯部及包覆部；芯层中第1芯部和包覆部所遍及的部分的层内方向的折射率分布W连续地变化，具有以第1凸部、第1凹部和第2凸部的顺序排列的区域，位于第1芯部的折射率分布W具有第1凸部，位于包覆部的折射率分布W具有折射率的最大值小于第1凸部的第2凸部，第1包覆层和第1芯部所遍及的部分的层间方向的折射率分布T在第1包覆层与第1芯部的界面不连续地变化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光波导和电子设备。
技术介绍
近年来，关于使用光载波传送数据的光通信技术，作为将光载波从一个地点传导至另一地点的方式，逐渐普及了光波导。光波导具有线状的芯部和以覆盖其周围的方式设置的包覆部。作为光波导，例如可举出专利文献I记载的材料。在专利文献I中，记载了使折射率调节剂在聚合物基体中扩散从而芯部的折射率在横截面分布成同心圆状的光波导。另一方面，记载了覆盖芯部周围的包覆部的折射率为恒定。芯部由实质上对光载波的光为透明的材料构成，包覆部由折射率低于芯部的材料构成。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2006-276735号公报
技术实现思路
在上述技术中，形成多个芯部时，有时在相邻的芯部间发生串扰。本专利技术包含以下内容。[I] 一种光波导，具备第I包覆层，设置于所述第I包覆层上且依次具有沿层内方向设置的包覆部、第I芯部、包覆部、第2芯部和包覆部的芯层，和设置于所述芯层上的第2包覆层；所述芯层中所述第I芯部和所述包覆部所遍及的部分的层内方向的折射率分布W连续地变化，具有以第I凸部、第I凹部和第2凸部的顺序排列的区域，位于所述第I芯部的所述折射率分布W具有所述第I凸部，位于所述包覆部的所述折射率分布W具有折射率的最大值小于所述第I凸部的所述第2凸部，所述第I包覆层和所述第I芯部所遍及的部分的层间方向的折射率分布T在所述第I包覆层与所述第I芯部的界面不连续地变化。[2]在[I]所述的光波导中，所述第I包覆层、所述包覆部和所述第2包覆层所遍及的部分的层间方向的折射率分布P在位于所述第I包覆层的部分和位于所述包覆部的部分是不同的。[3]在[I]或[2]所述的光波导中，所述第I包覆层、所述第I芯部所遍及的部分的层间方向的折射率分布T与所述折射率分布W不同。[4]在[I] [3]中任一项所述的光波导中,所述第I芯部的折射率最大值与所述第I包覆层的折射率最大值的折射率差大于所述第I芯部的折射率最大值与所述包覆部的折射率最大值的折射率差。[5]在[I] [4]中任一项所述的光波导中，具备设置于所述第2包覆层上的、与所述芯层为不同部件的第2芯层，所述第2芯层具有位于所述第I芯部的层间方向的第3芯部。[6]在[I] [5]中任一项所述的光波导中，所述第I凹部的顶部的折射率小于所述包覆部的平均折射率。[7]在[I] [6]中任一项所述的光波导中，所述折射率分布W在所述第I芯部与所述包覆部的界面附近以外具有所述第2凸部的顶部。[8]在[I] [7]中任一项所述的光波导中，所述折射率分布W在所述包覆部的中心部具有所述第2凸部的顶部，具有折射率从所述第2凸部的所述顶部向所述第I凹部连续下降的区域。[9]在[I] [8]中任一项所述的光波导中，所述折射率分布T中的所述第I芯部与所述第I包覆层的折射率差大于所述折射率分布W中的所述第I凹部的顶部与所述第I凸部的顶部的折射率差。[10]在[I] [9]中任一项所述的光波导中，具有以横切所述第I芯部和所述第I包覆层的方式设置的空孔，利用该空孔的内表面构成将经由所述芯部传送的光反射的反射面。[11]在[I] [10]中任一项所述的光波导中，所述第I凹部的顶部的折射率与所述包覆部的平均折射率的差是所述第I凹部的顶部的折射率与所述第I凸部的顶部的折射率的差的3 80%。[12]在[I] [11]中任一项所述的光波导中，所述第I凹部的顶部的折射率与所述第I凸部的顶部的折射率的折射率差是O. 005 O. 07。[13]在[I] [12]中任一项所述的光波导中，在所述折射率分布W中，将所述第I凸部的折射率具有所述包覆部的平均折射率以上的值的部分的宽度设为a[ym]，将所述第I凹部的折射率具有小于所述包覆部的平均折射率的值的宽度设为b[ym]时，b为O. Ola 1. 2a。[ 14] 一种光波导，其特征在于，具有芯层和包覆层，所述芯层具备芯部和与该芯部的两侧面邻接的侧面包覆部，所述包覆层分别层叠在该芯层的两面；所述芯层的横截面的宽度方向的折射率分布W具有至少2个极小值、至少I个第I极大值、和小于所述第I极大值的至少2个第2极大值；具有这些值以第2极大值、极小值、第I极大值、极小值、第2极大值的顺序排列的区域，该区域中，以包含所述第I极大值的方式被所述2个极小值夹持的区域是所述芯部，从所述各极小值到所述第2极大值侧的区域是所述侧面包覆部；所述各极小值小于所述包覆部的平均折射率，且所述折射率分布整体上折射率连续地变化；所述光波导的横截面的厚度方向的折射率分布T中，分别在与所述芯部对应的区域和与所述包覆层对应的区域折射率基本恒定，且在所述芯部与所述包覆层的界面折射率不连续地变化。[15] 一种电子设备,其特征在于,具备[I] [14]中任一项所述的光波导。根据本专利技术，相邻的芯部间的串扰得到抑制。附图说明[图1]是表示本专利技术的光波导的第I实施方式(切去一部分，并透视地表示)的立体图。[图2]是示意地表示对于图1所示的X-X线截面图、横轴取芯层厚度的中心线Cl的位置、纵轴取折射率时的折射率分布的一例的图。[图3]是表示对图1所示的光波导的I个芯部射入光时的出射光的强度分布的一例的图。[图4]是切出图1所示的X-X线截面图的以芯部为中心的一部分的图，以及示意地表示通过X-X线截面图的芯部的宽度方向的中心的中心线C2上的折射率分布T的一例的图。[图5]是表示本专利技术的光波导的第2实施方式(部分透视地表示)的立体图。[图6]是用于说明图1所示的光波导的第I制造方法的图。[图7]是用于说明图1所示的光波导的第I制造方法的图。[图8]是用于说明图1所示的光波导的第I制造方法的图。[图9]是用于说明图1所示的光波导的第I制造方法的图。[图10]是用于说明图1所示的光波导的第I制造方法的图。[图11]是用于说明在照射区域与未照射区域之间产生折射率差的样子的图，是表不横轴取层的横截面的宽度方向的位置、纵轴取横截面的折射率时的折射率分布的图。[图12]是用于说明测定光波导的出射侧端面的出射光的强度分布的方法的图。[图13]是表示实施例1、比较例I和比较例2中得到的光波导的出射侧端面的出射光的强度分布的图。具体实施例方式以下，对于本专利技术的光波导和电子设备，基于附图所示的优选实施方式详细地说明。<光波导>首先，对本专利技术的光波导进行说明。(第I实施方式)图1是表示本专利技术的光波导的第I实施方式(切去一部分并透视地表示)的立体图，图2是表示对于图1所示的X-X线截面图、横轴取芯层厚度的中心线的位置、纵轴取折射率时的折射率分布的一例的图，图3是表示对图1所示的光波导的I个芯部射入光时的出射光的强度分布的一例的图。应予说明，在以下的说明中，将图1中的上侧称为“上”、下侧称为“下”。另外，图1夸张地描绘了层的厚度方向(各图的上下方向)。说明本实施方式的光波导的概要。第I实施方式的光波导具备第I包覆层(包覆层11)、芯层(芯层13)、第2包覆层(包覆层12)。芯层(芯层13)设置于包覆层11上，并依次具有沿层内方向设置的包覆部、第I芯部(芯部14)、包覆部(包覆部15)、第2芯部(芯部14)、及包覆部。第2包覆层设置于芯层上。芯层中第I芯部(芯部14)和包覆部(包覆部15)所遍及的部分的层内方向的折射率分布W连续本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.27 JP 2010-1912941.一种光波导，具备: 第I包覆层， 设置于所述第I包覆层上且依次具有沿层内方向设置的包覆部、第I芯部、包覆部、第2芯部和包覆部的芯层，和 设置于所述芯层上的第2包覆层； 所述芯层中所述第I芯部和所述包覆部所遍及的部分的层内方向的折射率分布W连续地变化，具有以第I凸部、第I凹部和第2凸部的顺序排列的区域， 位于所述第I芯部的所述折射率分布W具有所述第I凸部， 位于所述包覆部的所述折射率分布W具有折射率的最大值小于所述第I凸部的所述第2凸部， 所述第I包覆层和所述第I芯部所遍及的部分的层间方向的折射率分布T在所述第I包覆层与所述第I芯部的界面不连续地变化。2.如权利要求1所述的光波导，其中，所述第I包覆层、所述包覆部和所述第2包覆层所遍及的部分的层间方向的折射率分布P在位于所述第I包覆层的部分和位于所述包覆部的部分是不同的。3.如权利要求1或2所述的光波导，其中，所述第I包覆层、所述第I芯部所遍及的部分的层间方向的折射率分布T 与所述折射率分布W不同。4.如权利要求1 3中任一项所述的光波导，其中，所述第I芯部的折射率最大值与所述第I包覆层的折射率最大值的折射率差大于所述第I芯部的折射率最大值与所述包覆部的折射率最大值的折射率差。5.如权利要求1 4中任一项所述的光波导，其中，具备设置于所述第2包覆层上的、与所述芯层为不同部件的第2芯层，所述第2芯层具有位于所述第I芯部的层间方向的第3芯部。6.如权利要求1 5中任一项所述的光波导，其中，所述第I凹部的顶部的折射率小于所述包覆部的平均折射率。7.如权利要求1 6中任一项所述的光波导，其中，所述折射率分布W在所述第I芯部与所述包覆部的界面附近以外具有所述第2凸部的顶部。8.如权利要求1 7中任一项所述的光波导,其中,所述折射率分布W在所述包覆部的中心部具有所述第2凸部的顶部，具有折射率从所述第2凸部的所述顶部向所述第I凹部连续下降的区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：森哲也，守谷公雄，
申请(专利权)人：住友电木株式会社，
类型：
国别省市：