粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置制造方法及图纸

技术编号:8658410 阅读:212 留言:0更新日期:2013-05-02 02:50
本发明专利技术的目的在于获得使照射野和照射位置精度的组合等有关粒子射线照射的多个参数的组合可变,能够进行多种多样的不同照射方式的照射的粒子射线照射装置。所述粒子射线照射装置是将利用经加速器(54)加速的带电粒子束(3)照射到照射对象(11)的粒子射线照射装置(58),包括:扫描电磁铁(1、2),该扫描电磁铁(1、2)将带电粒子束(3)进行扫描;以及扫描电磁铁移动装置(4),该扫描电磁铁移动装置(4)移动扫描电磁铁(1、2)以使带电粒子束(3)的射束轴向上的扫描电磁铁(1、2)与照射对象(11)之间的距离改变。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用粒子射线治疗癌症等的粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置
技术介绍
粒子射线治疗装置一般包括:射束产生装置,该射束产生装置产生带电粒子束;加速器,该加速器与射束产生装置相连且将所产生的带电粒子束进行加速;射束输送系统,该射束输送系统输送被加速器加速至设定的能量后射出的带电粒子束;以及粒子射线照射装置,该粒子射线照射装置设于射束输送系统的下游且对照射对象照射带电粒子束。对于粒子射线照射装置而言,大致分为两种照射方式,即宽广照射方式和扫描照射方式(点扫描、光栅扫描等),前者用散射体将带电粒子束散射扩展,并使扩展的带电粒子束符合照射对象的形状而形成照射野,后者将细束状的射束进行扫描来形成符合照射对象的形状的照射野。宽广照射方式用准直仪、团块(bolus)来形成与患部形状相符的照射野。该方式是使用最广泛的、优良的照射方式,可形成与患部形状相符的照射野,防止对正常组织的无用照射。可是,需要按每个患者制作团块,或者需要为了与患部相符而将准直仪变形。另一方面,扫描照射方式是不需要准直仪和团块的自由度高的照射方式。可是,由于未使用防止照射到患部以外的正常组织的这些零部件,扫描照射方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种粒子射线照射装置,该粒子射线照射装置将经加速器加速的带电粒子束照射到照射对象,其特征在于,包括: 扫描电磁铁,所述扫描电磁铁在与射束轴垂直的X方向及Y方向上扫描所述带电粒子束;以及 扫描电磁铁移动装置,所述扫描电磁铁移动装置移动所述扫描电磁铁,以使所述带电粒子束的射束轴向上的所述扫描电磁铁与所述照射对象之间的距离改变。2.如权利要求1所述的粒子射线照射装置,其特征在于, 包括照射控制装置,所述照射控制装置基于所述带电粒子束的目标照射位置坐标来控制所述扫描电磁铁, 所述照射控制装置基于所述扫描电磁铁与所述照射对象之间的距离来生成控制所述扫描电磁铁的控制输入。3.如权利要求2所述的粒子射线照射装置,其特征在于, 所述照射控制装置具有控制输入生成部,所述控制输入生成部基于所述扫描电磁铁与所述照射对象之间的距离来 生成控制输入。4.如权利要求3所述的粒子射线照射装置,其特征在于, 所述照射控制装置具有照射位置精度不相同的多个所述控制输入生成部,所述照射位置精度基于所述扫描电磁铁与所述照射对象之间的距离。5.如权利要求3或4所述的粒子射线照射装置,其特征在于, 所述控制输入生成部是在所述控制输入和对应于所述控制输入的所述目标照射位置坐标之间建立关系的变换表。6.如权利要求3或4所述的粒子射线照射装置,其特征在于, 所述控制输入生成部是在所述控制输入和所述目标照射位置坐标之间建立关系的多项式。7.如权利要求1至6中任一项所述的粒子射线照射装置,其特征在于, 所述扫描电磁铁包括: 第一扫描电磁铁,所述第一扫描电磁铁在X方向及Y方向上扫描所述带电粒子束;以及第二扫描电磁铁,所述第二扫描电磁铁配置在所述第一扫描电磁铁的下游且在X方向及Y方向上扫描所述带电粒子束, 所述扫描电磁铁...

【专利技术属性】
技术研发人员:片寄雅
申请(专利权)人:三菱电机株式会社
类型:
国别省市:

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