【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子射线领域，特别是涉及一种低剂量率的。
技术介绍
电子射线可以广泛用于工业辐照加工和科研实验。一般通用的电子射线发生器为提高工业生产效率而设计，电子射线的输出设计偏向大功率，高剂量率。因此很难利用这些电子射线发生器获得低剂量率的电子射线。当需要使用通用的电子射线发生器进行低剂量率电子射线相关应用包括产品某些辐照考验试验时，需要的剂量率远远低于通用电子射线发生器所能产生的剂量率下限。通用的电子射线发生器很难满足要求，或需要大幅度的改装。
技术实现思路
本专利技术要解决的 技术问题是为了克服现有技术中的电子射线源产生装置输出的电子射线功率大、剂量率高，在某些辐照试验或是有特殊要求的产品加工中，所需要的剂量率远远低于输出的电子射线的剂量率下限，只有大幅度改装设备才能满足要求的缺陷，提供一种无需增加额外控制设备且成本低廉，同时又能够连续工作产生低剂量率的电子射线的电子射线源产生装置及方法。本专利技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:一种电子射线源产生装置，用于辐照一照射面，该电子射线源产生装置包括一用于输出一电子射线的电子射线发生器，该电子射线从该电子...
【技术保护点】
一种电子射线源产生装置，用于辐照一照射面，该电子射线源产生装置包括一用于输出一电子射线的电子射线发生器，该电子射线从该电子射线发生器的一出射面发出，其特征在于，在该电子射线的传输路径上依次设有：一吸收板，用于遮挡该电子射线，该吸收板上开有一用于漏射部分该电子射线的漏孔；一扫描机构，该扫描机构用于对从该漏孔漏射的该电子射线于空气中进行扫描，使经过扫描后的该电子射线能够均匀辐照至该照射面上；该电子射线源产生装置还包括一用于对该吸收板及该扫描机构进行降温的风机。
【技术特征摘要】
1.一种电子射线源产生装置，用于辐照一照射面，该电子射线源产生装置包括一用于输出一电子射线的电子射线发生器，该电子射线从该电子射线发生器的一出射面发出，其特征在于，在该电子射线的传输路径上依次设有: 一吸收板，用于遮挡该电子射线，该吸收板上开有一用于漏射部分该电子射线的漏孔； 一扫描机构，该扫描机构用于对从该漏孔漏射的该电子射线于空气中进行扫描，使经过扫描后的该电子射线能够均匀辐照至该照射面上； 该电子射线源产生装置还包括一用于对该吸收板及该扫描机构进行降温的风机。2.如权利要求1所述的电子射线源产生装置，其特征在于，该电子射线源产生装置还包括一调节机构，用于调节该吸收板和该扫描机构的位置。3.如权利要求1所述的电子射线源产生装置，其特征在于，该漏孔的面积S。满足公式:4.如权利要求1所述的电子射线源产生装置，其特征在于，该漏孔与该出射面的距离不大于5cm。5.如权利要求1所述的电子射线源产生装置，其特征在于，该漏孔对该照射面的张角不大于60°。6.如权利要求1所述的电子射线源产生装置，其特征在于，该风机保持该扫描机构及该吸收板的温度在100摄氏度以下。7.如...
【专利技术属性】
技术研发人员：何子锋，朱希恺，翟光延，黄建鸣，李林繁，李景烨，盛康龙，张宇田，李德明，张海荣，
申请(专利权)人：中国科学院上海应用物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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