一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法技术

本发明专利技术公开了一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法，该方法首先在羟基化的基底上制备烷基乙氧基硅烷自组装单分子膜，再将制备好的基底放入烘箱中，在100-120℃下保存2-5小时，然后在体积比为1-8：1的乙醇/水混合液中保存5-60分钟，取出并吹干后，再放入分子头基较小的烷基三氯硅烷或烷基磷酸有机溶液中反应20-60分钟，反应后放入烘箱中，在100-120℃下保存2-5小时后取出，最后，分别用丙醇、氯仿、异丙醇超声清洗，得到所述均相混合自组装单分子膜。本发明专利技术操作简单，形成的混合自组装单分子膜表面光滑，性质均一。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于纳米
，尤其涉及。
技术介绍
由于混合自组装单分子膜具有官能团及组分比可控，同时拥有制备大量表面纳米结构的能力，混合自组装技术被广泛地应用于纳米器件的制备，比如化学传感器、生物传感器、分子器件，以及制备用于润湿性、黏附性和摩擦力等基础研究的模型表面。混合自组装单分子膜已经成为分子水平上表面工程研究的一种不可或缺的模型。目前，共吸附法是制备混合自组装单分子膜最为常用的方法。所谓共混合法，就是将固体基浸入由两种反应物按特定浓度比组成的混合溶液中，从而在固体基上形成混合自组装单分子膜。然而，不同反应物的吸附能力是不同的，混合SAM表面末端官能团的组成以及纳米级分子区域的尺寸及其分布与混合溶液中反应物的浓度比并不成线性关系，而且需要做大量的试错试验来调节不同组分的优先吸附，以获得所需组分比的混合SAM。所以对于制备均相混合自组装单分子膜来说，这种方法是不适用的。徐国华等(Colloidsand Surfaces A, 2008.316(1 - 3): p.194-201)提出了一种利用空间位阻制备混合自组装单分子膜的设想，但文中提到的制备方法有其局限性，仅能制备烧基乙氧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法，其特征在于，该方法具体为：（1）室温下（5?25℃），将已经羟基化的基底放入反应器中，配制0.05?4×10?3mol/L烷基乙氧基硅烷有机溶液并倒入反应器中，反应液至少要淹没基底，密封反应20?120分钟后取出，用反应液所用溶剂缓缓冲洗以除去物理吸附的偶联剂聚合物，氮气吹干即得表面具有均匀的单分子膜的基底；（2）将基底放入烘箱中，在100?120℃下保存2?5小时后取出，再放入体积比为1?8：1的乙醇和水混合液中，乙醇和水混合液至少淹没基底，保存5?60分钟后取出，氮气吹干；（3）室温下（5?25℃），将基底放入反应器中，配制浓度为0.05?...

【技术特征摘要】
1.一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法，其特征在于，该方法具体为: (1)室温下(5-25°C)，将已经羟基化的基底放入反应器中，配制0.05-4X 10^mol/L烷基乙氧基硅烷有机溶液并倒入反应器中，反应液至少要淹没基底，密封反应20-120分钟后取出，用反应液所用溶剂缓缓冲洗以除去物理吸附的偶联剂聚合物，氮气吹干即得表面具有均匀的单分子膜的基底； (2)将基底放入烘箱中，在100-120°C下保存2-5小时后取出，再放入体积比为1-8:1的乙醇和水混合液中，乙醇和水混合液至少淹没基底，保存5-60分钟后取出，氮气吹干； (3)室温下(5-25°C)，将基底放入反应器中，配制浓度为0.05-4X l(r3mol/L的烷基三氯硅烷有机溶液或烷基磷酸有机溶液，将反应液倒入反应器中，反应液至少淹没基底，密封反应20-120分钟后取出，用反应液所用溶剂缓缓冲洗，冲洗后吹干，再放入烘箱中，在100-120°C下保存2...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐国华，朱志文，冯军勇，高源，曾祥轩，安越，何潮洪，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：