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一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法技术
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文档序号:8652771
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本发明公开了一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法,该方法首先在羟基化的基底上制备烷基乙氧基硅烷自组装单分子膜,再将制备好的基底放入烘箱中,在100-120℃下保存2-5小时,然后在体积比为1-8:1的乙醇/水混合液中保存5-60...
该专利属于浙江大学所有,仅供学习研究参考,未经过浙江大学授权不得商用。
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