【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜领域，尤其是真空镀膜中，采用离子轰击基材进行基材改性和清洗的机构，具体地说是一种真空镀膜用离子轰击板机构。
技术介绍
目前，在真空镀膜领域，国内外一般采用吹风、粘尘的方式对基材进行清洗，然后采用喷涂或浸涂的方式对基材进行表面改性。这种大气环境下的化学改性方法，容易对基材产生表面缺陷，而且污染环境。在真空镀膜工艺中一般没有采用过阳极离子板的设备和机构，当基材运行速度较快的情况下，镀膜时，由于溅射能量的有限，容易造成膜层和基材的附着力不是太好。因此影响镀膜产品的质量和产量。
技术实现思路
本技术的目的是针对传统的基材改性和清洗中所存在的容易对基材产生表面缺陷，污染环境和膜层与 基材的附着力不好的问题，提出一种设计结构简单，安装方便的真空镀膜用离子轰击板机构。本技术的技术方案是一种真空镀膜用离子轰击板机构，它包括电源、与电源阴极相连的充气管、与电源阳极相连的冷却水管和绝缘件，所述的冷却水管与充气管相对设置，待轰击基材从冷却水管和充气管间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管的一端为进气口，充气管上与待轰击基材相对的一面设有若干个出气口，所述的充气管和冷却水管的两端夹装绝缘件。本技术的阳极与阴极采用不锈钢板材。本技术的冷却水管的两端分别为进水口和出水口，进水口和出水口串接，循环冷却。本技术的充气管中充入氩气。本技术的若干个出气口均匀的布置在充气管上。本技术的各出气口的孔径均为O. 5mm，各出气口的间隔为30mm。本技术的绝缘件为聚四氟绝缘件。本技术的有益效果本技术通过物理方法对基材表面改性，提高基材于膜层的附着力，改善品质。本技术的设计结构简单...
【技术保护点】
一种真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是它包括电源、与电源阴极相连的充气管（1）、与电源阳极相连的冷却水管（2）和绝缘件（7），所述的冷却水管（2）与充气管（1）相对设置，待轰击基材（8）从冷却水管（2）和充气管（1）间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管（1）的一端为进气口（3），充气管（1）上与待轰击基材（8）相对的一面设有若干个出气口（4），所述的充气管（1）和冷却水管（2）的两端夹装绝缘件（7）。
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是它包括电源、与电源阴极相连的充气管(I)、与电源阳极相连的冷却水管(2)和绝缘件(7)，所述的冷却水管(2)与充气管(I)相对设置，待轰击基材(8)从冷却水管(2)和充气管(I)间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管(I)的一端为进气口(3)，充气管(I)上与待轰击基材(8)相对的一面设有若干个出气口(4)，所述的充气管(I)和冷却水管(2)的两端夹装绝缘件(7)。2.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是所述电源的阳极与阴极采用不锈钢板材。3.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱殿荣，曹俊，
申请(专利权)人：无锡康力电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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