【技术实现步骤摘要】
一种自清洗水下探测装置
本技术涉及一种水下探测装置，尤其是一种自带有清洗机构的水下探测装置。
技术介绍
水下探测装置由于长时间浸泡在水中，会有很多微生物及其钙化物质附着在探测 装置的探头上，产生检测精度变差的问题。对此，人们通过在探测装置的外部安装自动清洗 装置来实现水质检测的完全自动化。然而，目前市场上使用的自动清洗装置大致分为三种， 第一种是采用水管对探头的表面用水冲洗，但存在冲洗效果较差的问题；第二种是采用超 声波进行清洗，但存在水下安装困难且在水下达不到预期效果的问题；第三种是采用旋转 叶轮带动绒毛条进行擦拭清洗，但该探测装置依然存在结构不够简单的问题。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种结构简单、其自身带有的清洁机构，与 探头作为整体设置的水下探测装置。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案方案一一种自清洗水下探测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块、探头、螺杆 和驱动电机，导杆、清洁机构、螺杆和探头位于装置基座的同一侧，驱动电机位于装置基座 的另一侧，活动滑块由滑动端和延伸端组成，滑动端与延伸端形成“U”形结构，探头水平设 置在滑动端，清洁机构设置在延伸端，清洁机构包括清洁端头和旋转电机，清洁端头与探头 相对设置，活动滑块的滑动端套设在导杆上，驱动电机用于驱动螺杆旋转，螺杆旋转时通过 螺纹传动使滑动端沿导杆上下移动，则位于延伸端的清洁机构同时和滑动端一起运动。如上述的驱动电机为螺杆电机，螺杆穿过装置基座与螺杆电机相接。如上述的清洁端头为可旋转的刷头，旋转电机位于清洁端头固定端的外侧驱动刷 头旋转，刷头与探头接触；或者刷头...
【技术保护点】
一种自清洗水下探测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块、探头、螺杆和驱动电机；所述导杆、清洁机构、螺杆和探头位于装置基座的同一侧，驱动电机位于装置基座的另一侧，其特征在于：活动滑块由滑动端和延伸端组成，滑动端与延伸端形成“U”形结构，探头水平设置在滑动端，清洁机构设置在延伸端，清洁机构包括清洁端头和旋转电机，清洁端头与探头相对设置，活动滑块的滑动端套设在导杆上，驱动电机用于驱动螺杆旋转，螺杆旋转时通过螺纹传动使滑动端沿导杆上下移动，则位于延伸端的清洁机构同时和滑动端一起运动。
【技术特征摘要】
1.一种自清洗水下探测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块、探头、螺杆和驱动电机；所述导杆、清洁机构、螺杆和探头位于装置基座的同一侧，驱动电机位于装置基座的另一侧，其特征在于活动滑块由滑动端和延伸端组成，滑动端与延伸端形成“U”形结构，探头水平设置在滑动端，清洁机构设置在延伸端，清洁机构包括清洁端头和旋转电机，清洁端头与探头相对设置，活动滑块的滑动端套设在导杆上，驱动电机用于驱动螺杆旋转，螺杆旋转时通过螺纹传动使滑动端沿导杆上下移动，则位于延伸端的清洁机构同时和滑动端一起运动。2.根据权利要求1所述的一种自清洗水下探测装置，其特征在于所述驱动电机为螺杆电机，螺杆穿过装置基座与螺杆电机相接。3.根据权利要求2所述的一种自清洗水下探测装置，其特征在于所述清洁端头为可旋转的刷头，旋转电机位于清洁端头固定端的外侧驱动刷头旋转，所述刷头与探头接触；或者刷头具有一位移量，在移动到位移量端点时刷头与探头接触。4.一种自清洗水下探测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块、探头、螺杆和驱动电机；所述导杆、清洁机构、螺杆和探头位于装置基座的同一侧，驱动电机位于装置基座的另一侧，其特征在于活动滑块由滑动端和延伸端组成，探头水...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁永健，刘盛理，彭利民，肖红生，
申请(专利权)人：广东顺德宸熙物联科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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