一种自清洗水下感测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种自清洗水下感测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块、探头、螺杆和驱动电机，导杆、清洁机构、活动滑块、探头和螺杆位于装置基座的同一侧，驱动电机位于装置基座的另一侧，探头水平设置在活动滑块的一侧，活动滑块套设在导杆上，驱动电机用于驱动螺杆旋转，螺杆旋转时通过螺纹传动使活动滑块沿导杆上下移动，清洁机构固定在探头上下移动的轨迹上。其有益效果在于，清洁机构的刷头固定安装在装置基座，当探头移动至与探头水平对齐时，通过驱动刷头或活动滑块旋转即可实现对探头的清洁。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种自清洗水下感测装置
本技术涉及一种水下感测装置，尤其是一种自带有清洗机构的水下感测装置。
技术介绍
水下感测装置由于长时间浸泡在水中，会有很多微生物及其钙化物质附着在感测 装置的探头上，产生检测精度变差的问题。对此，人们通过在感测装置的外部安装自动清洗 装置来实现水质检测的完全自动化。然而，目前市场上使用的自动清洗装置大致分为三种， 第一种是采用水管对探头的表面用水冲洗，但存在冲洗效果较差的问题；第二种是采用超 声波进行清洗，但存在水下安装困难且在水下达不到预期效果的问题；第三种是采用旋转 叶轮带动绒毛条进行擦拭清洗，但该感测装置依然存在结构不够简单的问题。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种结构简单、其自身带有的清洁机构，且 与探头分离设置的水下感测装置。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案技术方案一一种自清洗水下感测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块、探头、螺杆 和驱动电机，导杆、清洁机构、活动滑块、探头和螺杆位于装置基座的同一侧，驱动电机位于 装置基座的另一侧，探头水平设置在活动滑块的一侧，活动滑块套设在导杆上，驱动电机用 于驱动螺杆旋转，螺杆旋转时通过螺纹传动使活动滑块沿导杆上下移动，清洁机构固定在 探头上下移动的轨迹上。如上述的驱动电机为螺杆电机，螺杆穿过装置基座与螺杆电机相接。如上述的清洁机构包括清洁端头和端头电机，清洁端头为可旋转的刷头，端头电 机位于清洁端头固定端的外侧驱动刷头旋转，所述刷头与探头接触。技术方案一的有益效果在于，探头由螺杆驱动上下移动实现离水和进水，清洁机 构固定，通过端头电机驱动刷头旋转实现对探头的清洁。作为技术方案一中清洁机构的改进如上述的清洁机构还包括清洁机构还包括摆动电机、支撑臂、摆杆和刷头，摆动电 机设置在支撑臂一端的外侧，该端的内侧通过传动部件与摆杆相连，支撑臂的另一端固定 在装置基座上，刷头设置在摆杆的一端，摆杆通过轴心固定在装置基座上的一处，且该处能 够使刷头在摆动轨迹上与探头相接触。如上述的另一端设有供传动部件伸入并可在内移动的凹槽。其有益效果在于，通过摆动电机驱动摆杆绕轴心摆动实现对探头的清洁。技术方案二 一种自清洗水下感测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块和探头，所述导杆、清洁机构、活动滑块、探头位于装置基座的同一侧，清洁机构固定在装置基座上，活动 滑块套设在导杆上，探头水平设置在活动滑块的一侧，活动滑块的另一侧通过传动部件与 步进电机相连，步进电机通过传动部件控制活动滑块左右摆动，活动滑块上设有旋转电机， 旋转电机用于驱动活动滑块旋转。如上述的清洁机构为刷头，刷头固定在探头左右摆动的轨迹上。技术方案二的有益效果在于，将清洁机构固定，在活动滑块的一侧设置步进电机 和传动部件，使得活动滑块能够左右摆动，且通过旋转电机驱动活动滑块旋转，带动探头旋 转，共同实现对探头的清洁。上述三个技术方案的自清洗水下感测装置均可以在浮标上使用。附图说明图1是本技术方案一的平面结构连接示意图；图2是本技术方案二的平面结构连接示意图；图3是本技术改进的清洁机构的平面结构连接示意图；图4是本技术应用于浮标方案的连接示意图。具体实施方式以下结合附图及具体实施例对本技术自清洗水下感测装置作进一步的详细 说明。实施例1参照图1所示，本技术一种自清洗水下感测装置，主要包括导杆1、螺杆2、螺 杆电机201、清洁机构3、装置基座4、活动滑块5和探头6，导杆1、螺杆2、清洁机构3、活动 滑块5、探头6位于装置基座4的同一侧，螺杆电机201位于装置基座4的另一侧，螺杆2穿 过装置基座4与螺杆电机201相接，探头6水平设置在活动滑块5的一侧，活动滑块5套设 在导杆I上，螺杆电机201用于驱动螺杆2旋转，螺杆2旋转时通过螺纹传动使活动滑块5 沿导杆I上下移动。清洁机构3包括可旋转刷头301和端头电机302，刷头301固定在探头6上下移动 的轨迹上，端头电机302位于可旋转刷头301固定端的外侧，端头电机302可以通过驱动刷 头301旋转对探头5进行清洗，或者刷头301与探头5具有一定位移量，端头电机302驱动 刷头301移动至与探头5接触后再进行清洗。实施例2参照图2所示，本技术一种自清洗水下感测装置，主要包括导杆1、清洁机构 2、步进电机3，装置基座4、活动滑块5和探头6，导杆1、清洁机构2、步进电机3、活动滑块5 和探头6位于装置基座4的同一侧，清洁机构2和步进电机3分别设置在装置基座4的两 端，导杆I位于清洁机构2和步进电机3之间，清洁机构2上设有刷头201，活动滑块5套设 在导杆I上，探头6水平设置在活动滑块5的一侧，活动滑块5的另一侧通过传动部件7与 步进电机3相连，活动滑块5上设有旋转电机501，活动滑块5旋转时，带动探头6旋转，刷 头201固定在探头6左右摆动的轨迹上。开动步进电机3,步进电机3通过传动部件7使得活动滑块5左右摆动，开动旋转电机501，旋转电机501驱动活动滑块5旋转，并带动探头6旋转，刷头201对探头6进行清洗。 实施例3[0031 ] 参照图3所示，可应用于实施例1中的一种清洁机构，主要包括摆动电机1、支撑臂 2、装置基座3、摆杆4和传动部件5，摆杆4通过传动部件5与支撑臂2相连固定，摆杆4的 一端设有供传动部件5伸入并可在内移动的凹槽401，另一端设有刷头402，摆杆4通过轴 心301固定在装置基座3的一处，该处能够使刷头402在摆动轨迹上与探头相接触，摆动电 机I位于传动部件5与支撑臂2的固定端的外侧，摆动电机I能驱动摆杆4摆动。实施例4参照图4所示，将实施1-3的自清洗水下感测装置I安装在浮标2上使用。根据上述说明书的揭示和教导，技术所属领域的技术人员还可对上述实施方 式进行变更和修改。因此，本技术并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对本实 用新型的一些修改和变更也应当落入本技术的权利要求的保护范围内。此外，本说明 书中使用的一些特定的术语，只是为了方便说明，并不对本技术构成任何限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自清洗水下感测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块、探头、螺杆和驱动电机，所述导杆、清洁机构、活动滑块、探头和螺杆位于装置基座的同一侧，驱动电机位于装置基座的另一侧，其特征在于：探头水平设置在活动滑块的一侧，活动滑块套设在导杆上，驱动电机用于驱动螺杆旋转，螺杆旋转时通过螺纹传动使活动滑块沿导杆上下移动，清洁机构固定在探头上下移动的轨迹上。

【技术特征摘要】
1.一种自清洗水下感测装置，包括导杆、清洁机构、装置基座、活动滑块、探头、螺杆和驱动电机，所述导杆、清洁机构、活动滑块、探头和螺杆位于装置基座的同一侧，驱动电机位于装置基座的另一侧，其特征在于探头水平设置在活动滑块的一侧，活动滑块套设在导杆上，驱动电机用于驱动螺杆旋转，螺杆旋转时通过螺纹传动使活动滑块沿导杆上下移动，清洁机构固定在探头上下移动的轨迹上。2.根据权利要求1所述的一种自清洗水下感测装置，其特征在于所述驱动电机为螺杆电机，螺杆穿过装置基座与螺杆电机相接。3.根据权利要求2所述的一种自清洗水下感测装置，其特征在于所述清洁机构包括清洁端头和端头电机，清洁端头为可旋转的刷头，端头电机位于清洁端头固定端的外侧驱动刷头旋转，所述刷头与探头接触。4.根据权利要求1或2所述的一种自清洗水下感测装置，其特征在于所述清洁机构还包括摆动电机、支撑臂、摆杆和刷头，摆动电机设置在支撑臂一端的外侧，该端的内侧通过传动部件与摆杆...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁永健，刘盛理，彭利民，肖红生，
申请(专利权)人：广东顺德宸熙物联科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：