一种基板清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种涉及半导体清洗设备技术领域，特别是涉及一种涡轮式液刷混合作用的基板清洗装置，包括滚刷主体和驱动所述滚刷主体旋转的驱动装置，所述滚刷主体外表面具有刷毛，所述滚刷主体还具有：液体流动腔室，位于所述滚刷主体内部，所述液体流动腔室具有至少一个进液口；至少一个喷射通道，内端开口位于所述液体流动腔室内壁，外端开口位于所述滚刷主体外表面。上述基板清洗装置，在使用过程中，滚刷主体转动，液体通过进液口进入液体流动腔室内，并通过喷射通道喷出，可以使液体呈曲线尽可能的喷淋到毛刷与基板的接触点。所以，本实用新型专利技术提供的基板清洗装置使刷毛能够实现自清洁。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体清洗设备
，特别是涉及ー种涡轮式液刷混合作用的基板清洗装置。
技术介绍
如图1所示，目前在液晶显示器制造エ艺中基板清洗及半导体制造行业基板清洗装置主要包括滚刷主体01和驱动滚刷主体01的驱动装置，目前，市场上所供应的基板清洗装置中，滚刷主体01为实心不锈钢金属，滚刷主体01的外壁具有呢绒材质的刷毛02。驱动装置驱动滚刷主体01运动，并通过刷毛02对基板进行清洁。但是，上述基板清洗装置中的滚刷主体01中液体无法与刷毛02同时作用，没有自清洁能力，需定期人工清洗。
技术实现思路
本技术提供一种半导体制造行业基板清洗装置，该清洗装置的刷毛能够实现自清洁。为达到上述目的，本技术提供以下技术方案一种涡轮式液刷混合作用基板清洗装置，包括滚刷主体和驱动所述滚刷主体旋转的驱动装置，所述滚刷主体外表面具有刷毛，所述滚刷主体还具有液体流动腔室，位于所述滚刷主体内部,所述液体流动腔室贯穿所述滚刷主体的长度方向，所述液体流动腔室具有两个进液ロ，分别位于所述滚刷主体的两个端面； 每ー个所述进液ロ处设有转动时将液体吸入所述液体流动腔室内的半开式叶轮，所述叶轮包括多个叶片和一个端盖，其中每ー个所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗装置，包括滚刷主体和驱动所述滚刷主体旋转的驱动装置，所述滚刷主体外表面具有刷毛，其特征在于，所述滚刷主体还具有：?液体流动腔室，位于所述滚刷主体内部，所述液体流动腔室贯穿所述滚刷主体的长度方向，所述液体流动腔室具有两个进液口，分别位于所述滚刷主体的两个端面；?每一个所述进液口处设有转动时将液体吸入所述液体流动腔室内的半开式叶轮，所述叶轮包括多个叶片和一个端盖，其中每一个所述叶片的一端固定于所述端盖，且每一个所述叶片与所述滚刷主体之间相对固定；?至少一个喷射通道，内端开口位于所述液体流动腔室内壁，外端开口位于所述滚刷主体外表面。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗装置，包括滚刷主体和驱动所述滚刷主体旋转的驱动装置，所述滚刷主体外表面具有刷毛，其特征在于，所述滚刷主体还具有 液体流动腔室，位于所述滚刷主体内部，所述液体流动腔室贯穿所述滚刷主体的长度方向，所述液体流动腔室具有两个进液口，分别位于所述滚刷主体的两个端面； 每一个所述进液口处设有转动时将液体吸入所述液体流动腔室内的半开式叶轮，所述叶轮包括多个叶片和一个端盖，其中每一个所述叶片的一端固定于所述端盖，且每一个所述叶片与所述滚刷主体之间相对固定； 至少一个喷射通道，内端开口位于所述液体流动腔室内壁，外端开口位于所述滚刷主体外表面。2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述液体流动腔室内壁设有螺纹状导水沟道，所述螺纹状导水沟道的旋向和所述滚刷...

【专利技术属性】
技术研发人员：李志宾，刘国梁，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：