水浴激光消融和激光加工的方法技术

技术编号:856340 阅读:206 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种水浴激光消融和激光加工方法,将需要激光消融和激光加工的样品置于盛有水的容器中,然后放置于激光辐照的范围内进行激光消融或激光加工处理。样品放置于水浴中阻断了其暴露于空气环境中的不利情况,水浴不但降低样品表面的温度,抑制激光消融飞溅物的产生和再沉积,改善样品表面的光洁度和加工精度;而且对激光等离子体所产生的冲击波起到反向增强的作用,对表面施以压应力,可以改善样品表面的应力分布,从而提高其机械性能。本发明专利技术方法适用于耐水的样品,比如硅片、玻璃等非金属,并且适用于可在水中传播的激光波段,蓝绿激光被水吸收很小是很好的光源。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及激光消融和加工,特别是一种。
技术介绍
在激光消融中,需消融的样品或工件(以下简称样品)置一般均暴露于空气中。作用后的样品表面会有各种形貌缺陷和应力缺陷,加工精度也受到影响。在改进的方法中,常常在消融过程中采用通惰性气体或其他气体(例如氧气)的喷嘴作用于消融部位来隔离空气和去除喷出物,对作用后的样品表面有一定的改善。但这种方法只能改善表面的形貌而不能同时改善机械应力分布;同时用气体辅助在某些场合增加了操作难度。
技术实现思路
本专利技术的目的在于在改善样品表面的形貌的同时改善机械应力分布,提高激光消融的总体质量,提供一种水浴激光消融和激光加工方法。本专利技术的目的通过以下措施来实现一种水浴激光消融和激光加工方法,将需要激光消融和激光加工的样品置于盛有水的容器中,然后放置于激光辐照的范围内进行激光消融或激光加工处理。样品放置于水浴中阻断了其暴露于空气环境中的不利情况,水浴不但降低样品表面的温度,抑制激光消融飞溅物的产生和再沉积,改善样品表面的光洁度和加工精度;而且对激光等离子体所产生的冲击波起到反向增强的作用,对表面施以压应力,可以改善样品表面的应力分布,从而提高其机械性能。本专利技术方法适用于耐水的样品,比如硅片、玻璃等非金属,并且适用于可在水中传播的激光波段,蓝绿激光被水吸收很小是很好的光源。在本专利技术方法中,样品完全浸泡于水中,水面高出样品顶部1-10毫米。与在先技术相比,本专利技术的水浴激光消融和激光加工方法,不仅改善样品的表面形貌还提高了样品的机械性能,具有使用方便、成本低廉和环保等优点。附图说明图1为本专利技术的水浴法激光消融和加工的一种布局示意图。具体实施例方式如图1为所示,激光器1采用Spectron-SL454G-Nd:YAG固体激光的532nm二次谐波输出。激光经过JD-1(专利号ZL96 2 29370.9)衰减器2后,一部分经分束片3分光后由功率计4监测。透过的激光用空间滤波器5整形。6为45°全反片,将入射激光偏转45°,再经小孔7和透镜8汇聚到样品10。样品10浸泡于盛有水的容器9中,水面高出样品顶部5-10毫米。是用本实施例进行硅片打孔和切割,获得了很好的结果。权利要求1.一种,其特征是将需要消融的样品置于盛有水的容器中,然后对需要激光消融和激光加工的部位进行激光辐照。2.根据权利要求1所述的,其特征是所述的水至少要覆盖激光消融和激光加工的部位以上1-10毫米。3.根据权利要求1所述的,其特征是样品完全浸泡于水中,水面高出样品顶部1-10毫米。全文摘要一种水浴激光消融和激光加工方法,将需要激光消融和激光加工的样品置于盛有水的容器中,然后放置于激光辐照的范围内进行激光消融或激光加工处理。样品放置于水浴中阻断了其暴露于空气环境中的不利情况,水浴不但降低样品表面的温度,抑制激光消融飞溅物的产生和再沉积,改善样品表面的光洁度和加工精度;而且对激光等离子体所产生的冲击波起到反向增强的作用,对表面施以压应力,可以改善样品表面的应力分布,从而提高其机械性能。本专利技术方法适用于耐水的样品,比如硅片、玻璃等非金属,并且适用于可在水中传播的激光波段,蓝绿激光被水吸收很小是很好的光源。文档编号B23K26/00GK1475324SQ03129608公开日2004年2月18日 申请日期2003年6月27日 优先权日2003年6月27日专利技术者叶震寰, 楼祺洪, 董景星, 魏运荣, 凌磊 申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水浴激光消融和激光加工的方法,其特征是将需要消融的样品置于盛有水的容器中,然后对需要激光消融和激光加工的部位进行激光辐照。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:叶震寰楼祺洪董景星魏运荣凌磊
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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