【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电子半导体制造领域及其它使用化学过滤装置的领域,具体地,涉及半导体晶圆制造中一种用于消除空气化学污染的移动式空气化学过滤装置。
技术介绍
电子技术飞速发展的今天,制造技术日新月异。随着消费者对电子产品的短小轻薄要求的越来越高,半导体集成电路的线径已经到达纳米级。如何在更小尺寸上实现尽可能多的功能,成为半导体行业竞争的焦点。然而越来越小的集成电路线径也意味着器件对环境要求越来越敏感。除了常规的温度、湿度、粒子外,空气微污染日益成为影响集成电路良率的重要因素。空气微污染包括无机(酸/碱性气体)、有机气体(VOC)等。据有关资料显示,在0. 2微米线径或更先进的晶圆工艺中,PPb级的空气微污染即可造成晶圆或光罩腐蚀、模糊等异常,造成损失很大,仅一片光罩的费用就达数十万元。针对上述空气微污染防护提出的更高要求,目前业界采用的是在关键区域安装化学过滤装置,以去除空气中的无机,有机微污染。该装置通常安装于空气的循环系统中,如天花板,回风管井等。该装置可保护相应区域环境将空气微污染降到规定浓度以下。但该装置需要在整个回风区域安装,成本很高;同时由于只在部分区域安装, ...
【技术保护点】
一种移动式空气化学过滤装置,其特征在于,包括移动平台、化学过滤器、风机和电源,其中所述风机设置在所述移动平台上放置电子元器件部位的上方;所述化学过滤器设置在所述风机上方;空气经过所述化学过滤器净化后由风机向下吹送,为放置于移动平台上的电子元器件提供净化后的空气;所述电源为风机供电。
【技术特征摘要】
1.一种移动式空气化学过滤装置,其特征在于,包括移动平台、化学过滤器、风机和电源,其中 所述风机设置在所述移动平台上放置电子元器件部位的上方; 所述化学过滤器设置在所述风机上方; 空气经过所述化学过滤器净化后...
【专利技术属性】
技术研发人员:程一刚,孙中官,钱勇,
申请(专利权)人:和舰科技苏州有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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