发光面板、发光面板的制造方法以及成膜系统技术方案

发光面板（105），具有基板和形成于所述基板上的发光功能层，所述发光功能层是多个功能层层叠而成的，多个功能层包括第一功能层以及第二功能层，在将从层叠方向的一方观察所述发光功能层时在与层叠方向交叉的方向上相邻或分离的两个区域中的一方称为第一发光区域（a）、将另一方称为第二发光区域（b）的情况下，所述第一发光区域（a）中的第一功能层（4a）的膜厚比所述第二发光区域（b）中的第一功能层（4b）的膜厚薄，并且所述第一发光区域（a）中的第二功能层（5a）的膜厚比所述第二发光区域（b）中的第二功能层（5b）的膜厚厚。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有层叠多个功能层而成的发光功能层的发光面板、发光面板的制造方法以及成膜系统。
技术介绍
这种发光面板，作为下一代的显示以及照明用面板受到期待，近年来，研究、开发取得进展。关于一般的发光面板的构成，以有机EL显示面板为例进行说明，在有机EL显示面板中，在TFT (薄膜晶体管)基板上形成有层间绝缘膜，在该层间绝缘膜上按各子像素形成有阳极(像素电极)。各个阳极被透明导电层覆盖。在相邻的阳极之间分别形成有堤。另一方面，在各阳极上，隔着透明导电层层叠有预定颜色的有机发光层。在各个阳极与层叠在该各个阳极的层叠的有机发光层之间，根据需要，形成有空穴注入层、空穴输送层或空穴注入兼输送层。并且，在各有机发光层上遍及整个面板形成有阴极(共用电极)。在阴极与各有机发光层之间，根据需要，形成有电极注入层、电子输送层或电子注入兼输送层。另外，作为与有机EL显示面板的层叠构造相关的现有技术文献，有专利文献I中记载的文献。专利文献1:日本特开平5-163488号公报
技术实现思路
有机EL显示面板等发光面板中的、从阳极到阴极的功能层(以下、也将从阳极到阴极的功能层ー并记作”发光功能层”。)中的几个功能层，使用真空成膜装置(磁控溅射装置、蒸镀装置等)来成膜。下面，作为真空成膜装置以磁控溅射装置为例，假设使用该装置成膜的功能层是透明导电层以及空穴注入层，来说明课题。透明导电层以及空穴注入层各自使用分别的磁控溅射装置成膜。在各磁控溅射装置中，配置靶构件，在该靶构件背面配置多个磁控管。因此，在分别成膜透明导电层以及空穴注入层时，会产生因多个磁控管的磁场引起的膜厚不均。在此，多个磁控管的配置位置在两个磁控溅射装置中相同。因此，透明导电层以及空穴注入层各自的膜厚存在相同的不均。例如，在对发光面板中的第一发光区域和第二发光区域进行比较的情况下，在第一发光区域中的透明导电层以及空穴注入层的膜厚都比在第二发光区域中的透明导电层以及空穴注入层的膜厚厚。也就是说，在透明导电层中的膜厚厚的部分之上层叠空穴注入层中的膜厚厚的部分，在透明导电层中的膜厚薄的部分之上层叠空穴注入层中的膜厚薄的部分。因此，在作为发光功能层来看的情况下，在第一发光区域和第二发光区域存在大的膜厚差。于是,作为结果,在发光面板产生辉度(brightness)不均。其原因认为是在第一发光区域和第二发光区域中光学距离、电阻值不同。以上，作为真空成膜装置以磁控溅射装置为例进行了说明，但是在使用蒸镀装置来成膜的情况下也会产生同样的课题。这是因为在蒸镀装置中虽然不配置磁控管，但是取而代之配置蒸镀源，会因蒸镀源的配置位置产生膜厚不均。因此，本专利技术的目的在于，提供ー种减小发光功能层的膜厚不均的发光面板。为了解决上述课题，本专利技术的一方案的发光面板，具有基板和形成于所述基板上的发光功能层，所述发光功能层是多个功能层层叠而成的，多个功能层中包括第一功能层以及第二功能层，在将从层叠方向的一方观察所述发光功能层时在与层叠方向交叉的方向上相邻或分离的两个区域中的一方称为第一发光区域、将另一方称为第二发光区域的情况下，所述第一发光区域中的第一功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第一功能层的膜厚薄，并且所述第一发光区域中的第二功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第二功能层的膜厚厚。在本专利技术的一方案的发光面板中,所述第一发光区域中的第一功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第一功能层的膜厚薄，并且所述第一发光区域中的第二功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第二功能层的膜厚厚。也就是说，第一功能层和第二功能层的膜 厚分布不同。因此，在本专利技术的一方案的发光面板中，尽管在第一功能层以及第ニ功能层的各自存在膜厚厚的部分和薄的部分，但是与第一功能层和第二功能层的膜厚分布相同的情况相比，第一发光区域和第二发光区域的膜厚差减小。由于发光面板中的膜厚不均减小，所以能够减小该发光面板中的辉度不均。附图说明图1 (a)是表示本专利技术的实施方式I的显示装置100的电构成的框图，(b)是表示显示面板105所具有的一个像素电路的电路构成以及与其周边电路的连接的图。图2是示意表示显示面板105的主要部分的局部剖面图。图3是示意表示显示面板1050的微小区域A以及微小区域B各自中的、透明导电层和空穴注入层的膜厚的图。图4 Ca)是表示透明导电层的膜厚分布的图，(b)是表示空穴注入层的膜厚分布的图，(C)是表示透明导电层以及空穴注入层的层叠膜的辉度分布的图。图5是示意表示显示面板105的微小区域a以及微小区域b各自中的透明导电层和空穴注入层的膜厚的图。图6 Ca)是表示磁控溅射装置内的构成的图，(b)是示意表示基板21、靶构件22、以及多个磁控管25的配置关系的图，(c)是示意表示形成在基板21上的功能层26的图。图7 (a)是示意表示第一磁控溅射装置中的、基板31、靶构件32、以及多个磁控管35的配置关系的图，(b)是示意表示由第一磁控溅射装置形成在基板31上的透明导电层36的图，(c)是示意表示第二磁控溅射装置中的基板41、靶构件42、以及多个磁控管45的配置关系的图，(d)是示意表示由第二磁控溅射装置形成在基板41上的空穴注入层46的图，(e)是不意表不层叠膜56的图。图8 (a)是示意表示第一磁控溅射装置中的、基板61、靶构件62、以及多个磁控管65的配置关系的图，(b)是示意表示由第一磁控溅射装置形成在基板61上的透明导电层66的图，(c)是示意表示第二磁控溅射装置中的、基板71、靶构件72、以及多个磁控管75的配置关系的图，(d)是示意表示由第二磁控溅射装置形成在基板71上的空穴注入层76的图，(e)是不意表不层置I旲86的图。图9是表示显示面板105的制造エ序的一例的图。图10是表示显示面板105的制造エ序中的图9所示的工程后续部分的一例的エ序图。图11是示意表示显示面板1051的微小区域a以及微小区域b各自中的阳极以及空穴注入层的膜厚的图。 图12是示意表示显示面板1052的微小区域a以及微小区域b各自中的透明导电层、空穴注入层、以及阳极的膜厚的图。图13 (a)是示意表示第一磁控溅射装置中的基板61、靶构件62、以及多个磁控管65的配置关系的图，(b)是示意表示第二磁控溅射装置中的基板71、靶构件72、以及多个磁控管75的配置关系的图，(c)是示意表示用于阳极成膜的第三磁控溅射装置中的基板91、靶构件92、以及多个磁控管95的配置关系的图。图14是例示了显示装置100的外观的图。具体实施例方式<实施方式>本专利技术的一方案的发光面板，具有基板和形成于所述基板上的发光功能层，所述发光功能层是多个功能层层叠而成的，多个功能层中包括第一功能层以及第ニ功能层，在将从层叠方向的一方观察所述发光功能层时在与层叠方向交叉的方向上相邻或分离的两个区域中的一方称为第一发光区域、将另一方称为第二发光区域的情况下，所述第一发光区域中的第一功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第一功能层的膜厚薄，并且所述第一发光区域中的第二功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第二功能层的膜厚厚。在本专利技术的一方案的发光面板中,所述第一发光区域中的第一功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第一功能层的膜厚薄，并且所述第一发光区域中的第二功能层的膜厚比所述第二发光区本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种发光面板，具有基板和形成于所述基板上的发光功能层， 所述发光功能层由多个功能层层叠而成，所述多个功能层中包括第一功能层以及第二功能层， 在将从层叠方向的一方观察所述发光功能层时在与层叠方向交叉的方向上相邻或分离的两个区域中的一方称为第一发光区域、将另一方称为第二发光区域的情况下， 所述第一发光区域中的第一功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第一功能层的膜厚薄，并且所述第一发光区域中的第二功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第二功能层的膜厚厚。2.根据权利要求1所述的发光面板， 所述第一功能层和所述第二功能层是由真空成膜法成膜的层。3.根据权利要求1或2所述的发光面板， 所述第一功能层和所述第二功能层在层叠方向上相邻。4.根据权利要求3所述的发光面板， 所述多个功能层还包括阳极、和夹着所述第一功能层以及第二功能层与所述阳极相对向的阴极， 所述第一功能层是层叠于所述阳极上的透明导电层， 所述第二功能层是层叠于所述透明导电层上的电荷注入层。5.根据权利要求1 3中任一项所述的发光面板， 所述第一功能层由ITO或IZO构成， 所述第二功能层由氧化金属构成。6.根据权利要求1所述的发光面板， 所述多个功能层中还包括第三功能层， 所述第一发光区域中的第三功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第三功能层的膜厚厚。7.根据权利要求6所述的发光面板， 所述第三功能层是阳极， 所述多个功能层中还包括夹着所述第一功能层以及第二功能层与所述阳极相对向的阴极， 所述第一功能层是层叠于所述阳极上的透明导电层， 所述第二功能层是层叠于所述透明导电层上的电荷注入层。8.根据权利要求6所述的发光面板， 所述第三功能层由铝、银、或铝以及银中的任一方的合金构成。9.根据权利要求6所述的发光面板， 所述第三功能层是阴极， 所述多个功能层中还包括夹着所述第一功能层以及第二功能层与所述阴极相对向的阳极， 所述第一功能层是层叠于所述阳极上的透明导电层， 所述第二功能层是层叠于所述透明导电层上的电荷注入层。10.一种发光面板的制造方法，所述发光面板具有基板和在所述基板上层叠多个功能层而成的发光功能层，所述多个功能层包括第一功能层以及第二功能层， 所述制造方法包括 第一工序，由第一成膜装置形成所述第一功能层；以及 第二工序，由第二成膜装置形成所述第二功能层， 在将从层叠方向的一方观察所述发光功能层时在与层叠方向交叉的方向上相邻或分离的两个区域中的一方称为第一发光区域、将另一方称为第二发光区域的情况下， 所述第一发光区域中的第一功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第一功能层的膜厚薄，并且所述第一发光区域中的第二功能层的膜厚比所述第二发光区域中的第二功能层的膜厚厚。11.根据权利要求10所述的发光面板的制造方法， 所述第一成膜装置是第一磁控溅射装置， 所述第二成膜装置是第二磁控溅射装置。12.根据权利要求11所述的发光面板的制造方法， 所述第一磁控溅射装置具有 第一祀构件； 第一靶构件支架，保持配置于主面的所述第一靶构件；以及 多个第一磁控管，配置于所述第一靶构件支架中的与配置有所述第一靶构件的主面相反侧的面， 所述第二磁控溅射装置具有 第二靶构件； 第二靶构件支架，保持配置于主面的所述第二靶构件；以及 多个第二磁控管，配置于所述第二靶构件支架中的与配置有所述第二靶构件的主面相反侧的面， 所述基板，在所述第一磁控溅射装置内配置成与所述第一靶构件相对向之后，在所述第二磁控溅射装置内配置成与所述第二靶构件相对向， 所述多个第一磁控管各自相对于所述基板的位置，不同于所述多个第二磁控管各自相对于所述基板的位置。13.根据权利要求12所述的发光面板的制造方法， 所述多个第一磁控管以第一间隔等间隔配置， 所述多个第二磁控管以第二间隔等间隔配置， 所述第一间隔与所述第二间隔相等。14.根据权利要求10 13中任一项所述的发光面板的制造方法， 所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：西山诚司，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：
国别省市：