本实用新型专利技术涉及一种漏光检测基板及漏光检测装置，特别涉及一种对UVmask层进行漏光检测的漏光检测基板及漏光检测装置；所述漏光检测基板，用于对紫外光掩膜设备进行漏光检测，所述漏光检测基板包括：衬底基板和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层；所述漏光检测装置，包括图案采集单元，所述图案采集单元用于获取所述漏光检测基板上的图案信息。本实用新型专利技术采用漏光检测基板的设计，利用光致变色材料层在强紫外光照射下的颜色可逆性，可有效检测出UVmask层是否存在漏光区域，并以此调整UVmask层的设计。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显示
，特别涉及一种漏光检测基板及漏光检测装置。
技术介绍
目前，TFT-1XD (英文全称Thin Film Transistor,中文全称薄膜晶体管液晶显示)面板的阵列基板通过各层金属、非金属薄膜形成一定的图形沉积在玻璃上形成晶体管驱动液晶旋转，随着社会进步及科技发展，TFT-LCD已经成为当今时代显示领域的主流产品，在工业生产、日常生活中起到了至关重要的作用，越来越受到人们的青睐。但是目前TFT-1XD的图像显示品质一直以来都是制约TFT-1XD发展的重要因素，影响显示品质的原因很多，例如原材料的污染、液晶污染、PI污染、生产线洁净程度的好坏等，这些都影响着TFT-1XD的显示品质；除此以外，液晶显示器还受到外界环境的影响，例如曝光在强紫外光的条件下，显示品质也会大大受到影响，这主要是因为，强紫外光能够影响液晶显示器中的a-si TFT (非晶硅薄膜晶体管)，使a-si (非晶硅)在强紫光外的作用下产生不可逆的破坏，此外，强紫外光也会破坏TFT-LCD显示区域的液晶材料，使液晶分子和混合液晶当中的其他混合物产生未知的副反应，从而导致严重的残像。在目前液晶显示器制造过程中TFT-LCD面板的封框胶固化过程需要使用封框胶UV (紫外光)固化设备，该设备主要包括紫外光照射装置、传送装置、通风装置、检测结果单元及系统控制单元；在生产过程中，为了避免强紫外光照射到面板的显示区域，先将TFT-LCD面板放置在漏光检测基板及漏光检测装置的基台上，再在TFT-1XD面板上面放置一个UVmask层(紫外光掩膜设备)，UVmask层的作用是将TFT-LCD面板的显示区域遮挡住，使除封框胶之外的其他区域都被遮挡；同时仅将封框胶部分全部暴露在强紫外光之下。因此，封框胶固化工艺对UVmask层设计的精准度要求相当高，若将显示区域暴露在UVmask层外，封框胶虽能固化完全，但会产生种种显示问题，若封框胶没有完全暴漏在外，则会导致封框胶固化不完全，有可能导致封框胶断裂等不良问题；这些问题不能被及时发现，后果是导致大批量TFT-1XD面板出现质量问题，造成巨大经济损失。目前，现有的UV固化装置在进行UV固化工艺时，并不能直接显示固化过程实时监测是否有紫外光照射到面板的显示区域，更不可能检测出哪些显示区域被照射；因此，生产人员只能等待最终产品生产出来，并对其进行品质检测，当发现品质问题后再回头检讨UVmask的设计问题；这样的漏光检测装置使用起来不仅使UV固化过程费时费力、且增加了TFT-LCD的生产成本，不利于TFT-LCD的发展；不仅是紫外线固化设备，在需要其他需要精准曝光的设备使用中，都会遇上上述类似问题，因此，需要提供一种漏光检测基板、漏光检测装置以及具有漏光检测功能的曝光设备如紫外线固化装置，以解决提高精准度、减少损耗。
技术实现思路
本技术所解决的技术问题是无法在曝光之前对设备的漏光进行准确地检测，导致曝光不精准以及曝光设备如掩膜版成本消耗高的问题。本技术的目的是通过以下技术方案实现的一种漏光检测基板，所述漏光检测基板包括衬底基板和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层。还包括第二基板，覆盖在所述光致变色材料层上。所述衬底基板和所述第二基板通过基板边缘区域的封框胶粘结固定，所述封框胶的厚度不小于所述光致变色材料层的厚度。上述欧光检测基板是用于对紫外光掩膜设备进行漏光检测，所述光致变色材料层的材料至少包括光致变色螺吡喃聚合物、螺-恶嗪聚合物、二芳基乙烯光致变色聚合物、偶氮苯类光致变色聚合物、苯氧基萘并萘醌光致变色聚合物、俘精酰亚胺光致变色共聚物、硫靛光致变色共聚物、双硫腙光致变色聚合物、二氢吲嗪光致变色聚合物、WO3、MoO3或Ti02中的一种。一种漏光检测装置，包括如上述中任一项所述的漏光检测基板；所述漏光检测装置包括图案采集单元，所述图案采集单元用于获取所述漏光检测基板上的图案信息。还包括检测结果单元，所述检测结果单元与所述图案采集单元连接以显示所述图案采集单元所采集到的图案信息。所述图案采集单元为照相机。还包括紫外光照射装置，用于发出用于固化封框胶的紫外光，将所述紫外光照射到待检测的紫外光掩膜设备上，其中透过所述紫外光掩膜设备的紫外光照射到所述漏光检测基板上。还包括紫外光挡板，所述紫外光挡板设置在所述紫外光照射装置、所述漏光检测基板以及所述图案采集单元的外围。还包括通风装置，位于所述紫外光挡板的壁上，用于对所述紫外光挡板所围的空间进行通风。还包括传送装置，所述传送装置用于将待检测的紫外光掩膜设备传送到所述漏光检测基板的光入射一侧。还包括系统控制单元，与所述紫外光照射装置和所述图案采集单元连接，所述系统控制单元用于控制所述紫外光照射装置发出所述紫外光，以及控制所述图案采集单元获取所述漏光检测基板上的图案信息。本技术与现有技术相比具有以下的优点1、本技术采用漏光检测基板的设计，利用光致变色材料层在强紫外光照射下的颜色可逆性，可有效检测出曝光设备是否存在曝光不准确的区域区域，如漏光区域或光不足区域，并以此调整曝光设备的设计；当根据漏光情况调整曝光设备设计并更换上调整后，光致变色材料层则不会出现变色情况由于可逆特性，光致变色层能实现重复利用。2、本技术采用图案采集单元的设计，利用照相机随时对固化过程中的漏光检测基板进行拍照取样；同时将图像信息通过系统控制单元传送至检测结果单元进行显像，生产人员能够通过观察图片，及时获知待曝光器件的应曝光区域是否被光照射到，并通过观察漏光检测基板上的显色图案、显色位置，找到具体的曝光不准确的区域，从而有针对性地调整曝光设备的设计，提升产品的优良率及显示品质。附图说明以下结合附图和实施例对本技术作进一步说明。图1是本技术中实施例一的结构示意图；图2是本技术中实施例二的结构示意图。具体实施方式实施例一参见图1所示，为本实施例所提供的一种漏光检测基板，所述漏光检测基板包括衬底基板I和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层2。上述具有光致变色材料层2的漏光检测基板具有能够检测紫外光掩膜设备的精准度如是否漏光的功能，其使用方式可以为在对紫外光掩膜设备，例如紫外光固化设备中的UVmask层进行漏光检测时，将所述漏光检测基板置于所述UVmask层下方，优选置于用于放置待固化的面板的位置处，紫外光由UVmask层的上方照射，由于光致变色材料的光致变色特性，漏光检测基板上将形成图案，通过检查该图案，可检测出UVmask层是否精准，如是否产生漏光现象。优选地，本实施例中为使漏光检测基板整体结构更加平整、牢靠，可在所述衬底基板上设置第二基板3，覆盖在所述光致变色材料层上。本实施例中所述衬底基板和所述第二基板通过基板边缘区域的封框胶4以真空对盒的工艺将其对齐粘结固定，所述封框胶的厚度不小于所述光致变色材料层的厚度。本实施例中所述衬底基板和第二基板优选由玻璃材料、石英材料或透明高分子材料其中之一制成；所述的透明高分子材料如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚醚醚酮(PEEK)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚丁二酸乙烯(PES)、聚丙烯氧化物(PPO)等；对于衬底基板要求具备紫外光高透过率，且与光致变色材料不相互本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种漏光检测基板，包括：衬底基板和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：石岳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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