镁合金表面蚀刻电解质溶液及其蚀刻方法技术

本发明专利技术公开了一种镁合金表面蚀刻方法，包括：对镁合金材料表面打磨、抛光、超声清洗，取适量的蚀刻电解质溶液，在25~35℃温度下，搅拌25~30min；在镁合金表面覆盖掩模；将上述处理过的镁合金材料浸渍于上述电解质溶液中，以镁合金材料作为阳极，Ag作为阴极，调节直流稳压稳流电源的电压为6~10V，温度控制在30℃，搅拌速度控制在30~60r/s，进行蚀刻20~40min；然后超声清洗；将蚀刻后的镁合金材料进行表面氟化处理后，揭去掩膜。本发明专利技术蚀刻方法能够很好的控制反应速度，抑制横向腐蚀，保证纵向腐蚀，提高镁合金的抗腐蚀性，而且该加工工艺简单，操作方便，具有广泛的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种镁合金表面蚀刻电解质溶液，其组分及摩尔浓度为：NaNO2??????0.30~0.60mol/L；NaOH???????0.10~0.20mol/L；Na2SiO3????0.01~0.03mol/L；NH4F???????0.01~0.03mol/L；EDTA???????0.01~0.03mol/L。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄远，张丽芬，何芳，陆兆辉，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：