基材的等离子体处理制造技术

本发明专利技术提供用于等离子体处理基材的工艺，所述工艺包括对位于具有入口和出口的电介质外壳内的至少一个电极施加射频高压，同时使工艺气体从所述入口经过所述电极流动到所述出口，由此产生非平衡大气压等离子体。将雾化的或气态的表面处理剂掺入所述非平衡大气压等离子体。将所述基材邻近所述等离子体出口定位，以使得其表面与所述等离子体接触并相对于所述等离子体出口移动。控制所述工艺气体流以及所述等离子体出口与所述基材之间的间隙，以使得所述工艺气体在所述电介质外壳内具有湍流流态。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基材的等离子体处理本专利技术涉及使用等离子体系统处理基材。具体地讲，本专利技术涉及通过掺有雾化表面处理剂的非平衡大气压等离子体在基材上沉积薄膜。当对物质持续提供能量吋，其温度升高并且通常从固态转变为液态，然后变为气态。持续提供能量导致系统经历进ー步的状态变化，其中气体的中性原子或分子被有力的碰撞分解，产生带负电的电子、带正电或带负电的离子和其他激发态物质。这种表现出集体行为的带电粒子和其他激发态粒子的混合物称为“等离子体”，是物质的第四种状态。由于等离子体的电荷，它们受外部电磁场的高度影响，这使得它们可易于控制。此外，它们的高能含量使得它们可实现通过其他物质状态(例如通过液体或气体加工)不可能或难以完成的过程。术语“等离子体”涵盖密度和温度相差许多个数量级的广泛的系统。一些等离子·体非常热并且它们的所有微观物质(离子、电子等)接近热平衡，输入该系统的能量通过原子/分子等级的碰撞而广泛分布。然而，其他等离子体的组成物质温度迥异，称为“非热平衡”等离子体。在这些非热等离子体中，自由电子非常热，具有数千开氏度(K)的温度，而中性和离子物质仍然较冷。由于自由电子的质量几乎可以忽略不计，整个系统本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：弗朗索瓦兹·马辛内斯，托马斯·高迪，阿德里安·图唐特，皮埃尔·德斯坎普斯，帕特里克·里姆波尔，文森特·凯撒，
申请(专利权)人：道康宁法国公司，国家科学研究中心，
类型：
国别省市：