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本发明提供用于等离子体处理基材的工艺,所述工艺包括对位于具有入口和出口的电介质外壳内的至少一个电极施加射频高压,同时使工艺气体从所述入口经过所述电极流动到所述出口,由此产生非平衡大气压等离子体。将雾化的或气态的表面处理剂掺入所述非平衡大气压...该专利属于道康宁法国公司;国家科学研究中心所有,仅供学习研究参考,未经过道康宁法国公司;国家科学研究中心授权不得商用。
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本发明提供用于等离子体处理基材的工艺,所述工艺包括对位于具有入口和出口的电介质外壳内的至少一个电极施加射频高压,同时使工艺气体从所述入口经过所述电极流动到所述出口,由此产生非平衡大气压等离子体。将雾化的或气态的表面处理剂掺入所述非平衡大气压...