防反射膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种防反射膜，其包括：高折射率层，所述高折射率层包含第一粘合剂和分散在所述第一粘合剂中的纳米二氧化硅粒子，所述第一粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交联聚合物；和低折射率层，所述低折射率层层合在上述高折射率层上，并包含第二粘合剂以及分散在该第二粘合剂中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，该第二粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交联共聚物。另外，本发明专利技术公开了一种使用组合物通过更简化工艺制备防反射膜的方法，该组合物在单层涂布后通过相分离分成至少两层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容涉及一种。
技术介绍
一般而言，显示装置例如rop、CRT和IXD等装备有防反射膜(或防眩光膜)以使从外界进入屏幕的光的反射最小。在现有的防反射膜中，防反射层主要设置在透光基底上，并且广泛使用的是具有三层结构的防反射层，其中硬涂层、厚度为I μ m或大于I μ m的高折射率层和低折射率层顺序沉积(例如，日本专利申请公开第2002-200690号)。近来，为了简化制造工艺，在防反射层中省去高反射率层，而普遍使用其中沉积硬涂层和低反射率层的双层结构(例如，日本专利申请公开第2000-233467号)。另外，为了结合防眩光性和抗划伤性，使用装备有防眩光硬涂层的防反射膜。就这点而言，已建议通过将防眩光硬涂层的厚度控制在用以形成面层(mat)的透光粒子的平均颗粒直径的50、0%而使防眩光性和透光性共存的技术(例如，日本专利申请公开第 1996-309910 号)。同时，防反射膜通常由干法或湿法制成。根据干法，将具有低折射率的材料(例如，MgF2和SiO2等)通过沉积或溅射沉积在基底膜上作为薄膜，或者将具有高折射率的材料(例如，ITO (掺锡铟氧化物)、ΑΤ0 (掺锡锑氧化物)、ZnO和TiO2等)和具有低折射率的材料交替沉积。尽管干法可以制备具有强界面粘合的防反射膜，但由于高的制造成本而在商业上没有广泛地使用。同时，根据湿法，将包含聚合物树脂和有机溶剂等的涂料组合物涂布在基底膜上， 干燥并固化。而且，湿法由于相比于干法具有相对低的制造成本而在商业上广泛使用。然而，由于湿法应单独进行形成包括在防反射膜中的硬涂层、高折射率层和低折射率层等中每一层的工艺，因此制造工艺复杂，界面粘合差。因此，正在积极研究推进通过单次湿法涂布能够形成2层或多于2层的防反射涂料组合物。然而，由于相分离不能通过涂布组合物来顺利地实现，因此包括每层劣化功能的许多问题仍然存在。
技术实现思路
技术问题因此，本专利技术提供一种使用防反射涂料组合物制成的防反射膜，该防反射涂料组合物可以仅通过单次涂布工艺而顺利地相分离成至少两层。本专利技术还提供一种使用上述组合物以更简化的工艺制备防反射膜的方法。技术方案根据本专利技术，提供一种防反射膜，包括高折射率层，所述高折射率层包含第一粘合剂和分散在所述第一粘合剂中的纳米二氧化硅粒子，所述第一粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交联聚合物；和低折射率层，所述低折射率层层合在所述高折射率层上，并包含第二粘合剂以及分散在所述第二粘合剂中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，所述第二粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交联共聚物。在所述低折射率层中所述表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子可以具有朝着离开所述高折射率层的方向增加的分布梯度。而且，所述高折射率层的折射率可以为I. 5 I. 58，所述低折射率层的折射率可以为L I I. 45。另外，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物的折射率可以为I. 3 I. 4， 表面张力可以为10 25mN/m。优选地，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物可以是含氟的烷氧基硅烷化合物。更优选地，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物可以是选自十三氟辛基二乙氧基娃烧、十七氟癸基二甲氧基娃烧和十七氟癸基二异丙氧基娃烧中的至少一种。而且，所述氟基(甲基)丙烯酸酯化合物可以是选自下面化学式I 5中的至少在化学式I中，R1是氢或C1-C6烷基，a是O 7的整数，b是I 3的整数；权利要求1.一种防反射膜，包括 高折射率层，所述高折射率层包含第一粘合剂和分散在所述第一粘合剂中的纳米二氧化硅粒子，所述第一粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交联聚合物；和 低折射率层，所述低折射率层层合在所述高折射率层上，并包含第二粘合剂以及分散在所述第二粘合剂中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，所述第二粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交联共聚物。2.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，在所述低折射率层中所述表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子具有朝着离开所述高折射率层的方向增加的分布梯度。3.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，所述高折射率层的折射率为I.5 I. 58，所述低折射率层的折射率为I. I I. 45。4.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物的折射率为I. 3 I. 4，表面张力为10 25mN/m。5.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物是含氟的烷氧基硅烷化合物。6.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物是选自十二氟羊基二乙氧基娃烧、十七氟癸基二甲氧基娃烧和十七氟癸基二异丙氧基硅烷中的至少一种。7.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，所述氟基(甲基)丙烯酸酯化合物是选自下面化学式I 5中的至少一种 8.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，在所述高折射率层中的所述纳米二氧化硅粒子的数均颗粒直径为IOOnm或小于lOOnm。9.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，在所述低折射率层中的所述中空二氧化硅粒子和所述涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子的数均颗粒直径分别为I 200nm。10.根据权利要求I所述的防反射膜，其中，在所述低折射率层中所述涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子与所述中空二氧化硅粒子的重量比是1:0. I 20。11.一种制备防反射膜的方法，包括 制备包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物、氟基(甲基)丙烯酸酯化合物、纳米二氧化硅粒子、中空二氧化硅粒子、涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子、溶剂和引发剂的组合物； 在基底膜的至少一面上涂布所述组合物； 干燥经涂布的组合物；和 固化经干燥的组合物。12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述组合物基于100重量份的所述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物包含， I 30重量份的氟基(甲基)丙烯酸酯化合物； I 30重量份的纳米二氧化硅粒子； I 20重量份的中空二氧化硅粒子； I 60重量份的涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子； 100 500重量份的溶剂；和·1 20重量份的引发剂。13.根据权利要求11所述的方法，所述干燥在5 150°C的温度下进行0.I 60分钟。14.根据权利要求11所述的方法，其中，所述固化在涂布在基底膜上的组合物根据涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子的分布梯度相分离成至少一层后进行。15.根据权利要求11所述的方法，其中，所述固化通过在20 150°C的温度下热处理·1 100分钟的热固化，或通过在UV照射量为0. I 2J/cm2下UV照射I 600秒的UV固化来进行。全文摘要本专利技术公开了一种防反射膜，其包括高折射率层，所述高折射率层包含第一粘合剂和分散在所述第一粘合剂中的纳米二氧化硅粒子，所述第一粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交联聚合物；和低折射率层，所述低折射率层层合在上述高折射率层上，并包含第二粘合剂以及分散在该第二粘合剂中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，该第二粘合剂包含多官能(甲基)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：金宪，张影来，郑顺和，朴真荣，金芙敬，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：
国别省市：