防反射膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种防反射膜，其包括：高折射率层，所述高折射率层包含第一粘合剂和分散在所述第一粘合剂中的纳米二氧化硅粒子，所述第一粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交联聚合物；和低折射率层，所述低折射率层层合在上述高折射率层上，并包含第二粘合剂以及分散在该第二粘合剂中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，该第二粘合剂包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交联共聚物。另外，本发明专利技术公开了一种使用组合物通过更简化工艺制备防反射膜的方法，该组合物在单层涂布后通过相分离分成至少两层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容涉及一种。
技术介绍
一般而言，显示装置例如rop、CRT和IXD等装备有防反射膜(或防眩光膜)以使从外界进入屏幕的光的反射最小。在现有的防反射膜中，防反射层主要设置在透光基底上，并且广泛使用的是具有三层结构的防反射层，其中硬涂层、厚度为I μ m或大于I μ m的高折射率层和低折射率层顺序沉积(例如，日本专利申请公开第2002-200690号)。近来，为了简化制造工艺，在防反射层中省去高反射率层，而普遍使用其中沉积硬涂层和低反射率层的双层结构(例如，日本专利申请公开第2000-233467号)。另外，为了结合防眩光性和抗划伤性，使用装备有防眩光硬涂层的防反射膜。就这点而言，已建议通过将防眩光硬涂层的厚度控制在用以形成面层(mat)的透光粒子的平均颗粒直径的50、0%而使防眩光性和透光性共存的技术(例如，日本专利申请公开第 1996-309910 号)。同时，防反射膜通常由干法或湿法制成。根据干法，将具有低折射率的材料(例如，MgF2和SiO2等)通过沉积或溅射沉积在基底膜上作为薄膜，或者将具有高折射率的材料(例如，ITO (掺锡铟氧化物)、ΑΤ0 (掺锡锑氧化物)、Zn本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：金宪，张影来，郑顺和，朴真荣，金芙敬，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：
国别省市：