193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用制造技术

一种193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用，该光栅式起偏器在熔石英薄片的表面上刻有一定图形的光栅，该光栅为亚波长周期、深刻蚀光栅，该光栅的线密度为5260~5400线/mm，深度为1.1~1.2μm，占空比为30%~40%。该熔石英光栅起偏器是直接在紫外可透的光学薄片上制作光栅，能够有效避免能量损耗，并提高光学元件的稳定性。加工工艺成熟，精度高，能有效降低起偏器的成本。采用熔石英光栅起偏器，获得的偏振光偏振纯度高。而且同多层膜式起偏器相比，光栅对光束的入射方向不敏感，机械对准精度要求低，容易实现。光栅起偏器的厚度小，占用空间少，可放置在光刻照明系统多个位置，位置选择更加灵活。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及193nm光刻 设备，特别是一种用于193nm浸没光刻设备产生所需偏振状态的193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用。
技术介绍
在193nm浸没光刻设备中，偏振照明已经成为提高光刻系统分辨率、增大焦深和改善光刻对比度不可缺少的光刻分辨率增强技术。采用偏振照明的主要目的是实现掩模板对照明光场产生的衍射光束在硅片上的干涉叠加光场的对比度增强。对于高数值孔径的浸没光刻设备，偏振照明显得尤为重要。现阶段，193nm浸没光刻设备的照明光场的偏振状态主要包括X方向和Y方向的线偏振、切向偏振和径向偏振，通过特定的起偏器可实现这些偏振状态。由于能够透过193nm 光源的材料有限，所以传统上使用的起偏器如格兰-汤姆逊棱镜、洛匈棱镜等都无法使用。 在中国专利CN1645258A中叙述了采用镀有多层介质膜的光学片实现起偏。该方法由于可以选用的镀膜材料较少，无法实现较高透过率的膜层结构设计，所以能量利用效率不高。另外多层介质膜的偏振特性对光束的入射角非常敏感，入射角度稍有偏差，就会引起出射光束偏振度的改变。这两个因素限制了偏振膜层作为光刻系统起偏器的发展。利用光栅作为起偏器的方法已本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻设备中调整193nm紫外光束偏振状态的熔石英光栅起偏器，其特征是在熔石英薄片的表面上刻有一定图形的光栅，该光栅为亚波长周期、深刻蚀光栅，该光栅的线密度为5260~5400线/mm，深度为1.1~1.2μm，占空比为30%~40%。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱菁，杨宝喜，曾爱军，陈明，黄惠杰，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：