一种吹干大尺寸基片所用固定支架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种吹干大尺寸基片所用固定支架，由底座和半圆形支架构成，整个固定支架为整体铸造成型结构。所述底座为长方体形状，所述半圆形支架的具有开口向上的圆弧形面，圆弧形面的上部两个自由端的内侧为两个竖直面，在圆形支架上两个圆弧自由端上各设有一个大小相同的开口相对的固定槽B和固定槽C。使用时将清洗干净的超导薄膜基片放到本实用新型专利技术的固定支架上，再用气体将超导薄膜基片吹干。本实用新型专利技术提供的固定支架结构简单，易于操作，最重要的是能保证吹干时基片的安全牢固性及吹干质量，免去多次清洗基片的麻烦。基片与圆弧形面及竖直面之间有一定的距离，这样保证被吹下的液体可以迅速脱离整个基片。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种在清洗完大尺寸基片后，用气体吹干该基片时所用的固定支架，具体涉及一种吹干大尺寸超导薄膜基片所用的固定支架。
技术介绍
随着超导薄膜在多种微波器件及系统上的应用，大面积高温超导(HTS)薄膜的研究受到了极大关注。对于低损耗长延时时间的延迟线、高品质谐振器、滤波器、信号混频器、天线阵列等实用器件所需要的薄膜，其几何尺寸大小取决于波长及电感等参数，薄膜面积至少需要十几平方厘米(典型直径51mm)。另外从商业批量生产的角度考虑，大尺寸薄膜也是提高生产效率的手段之一。因此，世界各国为生产大面积(51_或更大直径)高温超导薄膜付出了巨大的努力，目前，国外HTS薄膜已经进入商品化阶段，国内也开始有小批量供应。目前，制备大尺寸高温超导薄膜所用基片多数是LaA103、Mg0、Al203等，这些基片的厚度一般在O. 5mm左右，质地较脆。在这些基片上生长超导薄膜之前必须对其进行严格的清洗，因为清洗质量直接影响到制备出的超导薄膜的均匀性、粗糙度、转变温度、临界电流密度等各项重要指标。超导基片的清洗步骤，一般是先用去离子水或超纯水清洗基片上的粉末、灰尘等固态污染物，再用有机溶剂清洗表面的油污、指印等有机污染物，最后一步是干燥。干燥的方法主要分为两种一种是用挥发速度极快的有机溶剂进行脱水干燥；一种是用惰性气体吹干基片表面的水分和有机溶剂。因为有机溶剂脱水干燥法对环境及人体健康危害较大，所以，目前多用惰性气体将清洗干净的基片吹干。而吹干双面抛光并被清洗干净的超导薄膜基片操作起来非常困难，一方面要注意夹持基片的力度，用力过大就会夹碎基片，用力稍小，基片还会滑落；另一方面还得注意两面干燥速度的一致性，吹干一面后要尽快将基片翻转过来吹另一面；而原先朝下的那面由于没有在第一时间被吹干，起初清洗时的清洗液或多或少会残留到基片上面，这样就要反复清洗超导基片，既费时又费力。
技术实现思路
针对上述现有技术中存在的问题，本技术的目的是提供一种吹干大尺寸基片所用固定支架，将清洗干净的超导薄膜基片放到本技术的固定支架上，再用气体将超导薄膜基片吹干，本技术提供的固定支架结构简单，易于操作，最重要的是能保证吹干时基片的安全牢固性及吹干质量，免去多次清洗基片的麻烦。本技术一种吹干大尺寸基片所用固定支架，由底座和半圆形支架构成，整个固定支架为整体铸造成型结构。所述底座为长方体形状,所述半圆形支架的具有开口向上的圆弧形面，圆弧形面的上部两个自由端的内侧为两个竖直面，所述的竖直面平行于底座的左右侧面且与底座上表面相垂直，在圆弧形面的正中间(最低点)设有一固定槽A，其沿着圆弧形面的一条圆弧线方向且开口朝上，固定槽A的底部为平面，底部比圆弧形面的最低点高且底部平面与固定槽A侧面相垂直；固定槽A的侧面平行于底座的前后侧面，垂直于底座的上表面。在圆形支架上两个圆弧自由端上各设有一个大小相同的开口相对的固定槽B和固定槽C,左侧的固定槽B开口水平朝右，右侧的固定槽C开口水平朝左。这两个固定槽B和固定槽C上表面位于同一水平面上且上表面与底座的上表面相平行。所述的固定槽B和固定槽C与圆弧形面上的固定槽A不同的是，这两个固定槽B和固定槽C的底部是圆弧状的且圆弧的顶点与竖直面相切。整个半圆形支架所在长方体与底座上平面相垂直。本技术的有益效果I、基片与圆弧形面及竖直面之间有一定的距离，这样保证被吹下的液体可以迅速脱离整个基片。2、用此固定支架可以同时吹干基片的两个面，保证了两面被干燥的一致性，节约时间。3、结构简单、易于操作、固定效果好。附图说明图I为本技术提供的固定支架的整体结构示意图；图2为本技术提供的固定支架的固定大尺寸基片时的效果图。具体实施方式如图I所示，本技术一种吹干大尺寸基片所用固定支架，由底座I和半圆形支架2构成，整个固定支架为整体铸造成型结构。所述底座I为长方体形状，底座I的上表面与半圆形支架2所在竖直面垂直，所述半圆形支架上具有开口向上的圆弧形面3,圆弧形面3的两个自由端内侧为竖直面4,所述的两个竖直面4平行于底座I的左右侧面，并且与底座I的上表面相垂直,在圆弧形面3的内侧的正中间设有一沿圆弧形面3的固定槽A5，固定槽A5的开口朝上，固定槽A5底部的上平面比圆弧形面3的最低点稍高，固定槽A5的两侧面平行于底座I的前后侧面且垂直于底座I的上表面。在左右两侧的竖直面4上各设有一个大小相同的固定槽B6和固定槽C7，左侧的固定槽B6开口水平朝右，右侧的固定槽C7开口水平朝左。固定槽B6和固定槽C7的上平面位于同一水平面上且与底座I的上表面相平行，固定槽B6和固定槽C7为竖直方向的槽。与圆弧形平面3上的固定槽A5不同的是，固定槽A5的底面为平面，固定槽B6和固定槽C7的底面是圆弧状的且圆弧的顶点分别与竖直面4相切。整个半圆形支架2所在长方体与底座I的上表面相垂直。所述的固定槽A5、固定槽B6、固定槽C7的槽宽是4mm,槽深是2. 5mm。所述的固定槽A5、固定槽B6、固定槽C7的开槽方向位于圆弧形面3的一条圆弧线上。如图2所示，本技术一种吹干大尺寸基片所用固定支架是这样来固定大尺寸超导薄膜基片的用镊子夹取清洗干净的超导薄膜基片，将其放入固定支架上，保证基片被三个固定槽A5、固定槽B6、固定槽C7固定住，用气体将超导薄膜基片的正反两面同时吹干，最后取下超导薄膜基片。权利要求1.一种吹干大尺寸基片所用固定支架，其特征在于所述固定支架由底座和半圆形支架构成，整个固定支架为整体铸造成型结构； 所述底座为长方体形状，所述半圆形支架的具有开口向上的圆弧形面，圆弧形面的上部两个自由端的内侧为两个竖直面,所述的竖直面平行与底座的左右侧面且与底座上表面相垂直，在圆弧形面的最低点设有一固定槽A，其沿着圆弧形面的一条圆弧线方向且开口朝上，固定槽A的底部为平面，底部比圆弧形面的最低点高且底部平面与固定槽A侧面相垂直；固定槽A的侧面平行于底座的前后侧面，垂直与底座的上表面；在圆形支架上两个圆弧自由端上各设有一个大小相同的开口相对的固定槽B和固定槽C，固定槽B和固定槽C上表面位于同一水平面上且上表面与底座的上表面相平行；整个半圆形支架所在长方体与底座上表面相垂直。2.根据权利要求I所述的一种吹干大尺寸基片所用固定支架，其特征在于所述的固定槽B和固定槽C的底部是圆弧状的且圆弧的顶点与竖直面相切。3.根据权利要求I所述的一种吹干大尺寸基片所用固定支架，其特征在于所述的固定槽A、固定槽B、固定槽C的槽宽是4mm,槽深是2. 5mm。4.根据权利要求I所述的一种吹干大尺寸基片所用固定支架，其特征在于所述的固定槽A、固定槽B、固定槽C的开槽方向位于圆弧形面的一条圆弧线上。专利摘要本技术公开了一种吹干大尺寸基片所用固定支架，由底座和半圆形支架构成，整个固定支架为整体铸造成型结构。所述底座为长方体形状，所述半圆形支架的具有开口向上的圆弧形面，圆弧形面的上部两个自由端的内侧为两个竖直面，在圆形支架上两个圆弧自由端上各设有一个大小相同的开口相对的固定槽B和固定槽C。使用时将清洗干净的超导薄膜基片放到本技术的固定支架上，再用气体将超导薄膜基片吹干。本技术提供的固定支架结构简单，易于操作，最重要的是能保证吹干时基片的安全牢固性及吹干质量，免去本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吹干大尺寸基片所用固定支架，其特征在于：所述固定支架由底座和半圆形支架构成，整个固定支架为整体铸造成型结构；所述底座为长方体形状，所述半圆形支架的具有开口向上的圆弧形面，圆弧形面的上部两个自由端的内侧为两个竖直面，所述的竖直面平行与底座的左右侧面且与底座上表面相垂直，在圆弧形面的最低点设有一固定槽A，其沿着圆弧形面的一条圆弧线方向且开口朝上，固定槽A的底部为平面，底部比圆弧形面的最低点高且底部平面与固定槽A侧面相垂直；固定槽A的侧面平行于底座的前后侧面，垂直与底座的上表面；在圆形支架上两个圆弧自由端上各设有一个大小相同的开口相对的固定槽B和固定槽C，固定槽B和固定槽C上表面位于同一水平面上且上表面与底座的上表面相平行；整个半圆形支架所在长方体与底座上表面相垂直。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王三胜，
申请(专利权)人：北京鼎臣超导科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：